臺(tái)式原子層沉積鍍膜系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
該臺(tái)式原子層沉積鍍膜系統(tǒng)擁有達(dá)到或超過市場(chǎng)上其他品牌的功能,，同時(shí)易于使用和維護(hù) - 成本低于當(dāng)今市場(chǎng)上的價(jià)格腔室溫度：室溫到325°C±1&...
磁控濺射鍍膜機(jī) 參考價(jià)：面議
磁控濺射鍍膜機(jī)具有射頻濺射,，直流濺射,，脈沖直流濺射,；304不銹鋼圓柱形腔體,，標(biāo)準(zhǔn)直徑有18英寸和24英寸,，手動(dòng)傳片或自動(dòng)傳片,適合各種形狀尺寸的小片到200mm...
脈沖激光外延制備鍍膜系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
脈沖激光外延制備鍍膜系統(tǒng)脈沖激光外延制備系統(tǒng)憑借著優(yōu)異的性能, PVD公司生產(chǎn)的脈沖激光沉積分子束外延系統(tǒng)在國內(nèi)外擁有較多用戶,，為眾多老師開啟薄膜外延制備的新篇...
脈沖激光沉積鍍膜設(shè)備 參考價(jià)：面議
脈沖激光沉積鍍膜設(shè)備激光在真空腔內(nèi)照射到成膜靶上,，靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume狀等離子體狀態(tài),，然后被堆積到設(shè)在對(duì)面的基板上而成膜。PLD方法可以獲...
狹縫擠出式涂布鍍膜機(jī) 參考價(jià)：面議
狹縫擠出式涂布鍍膜機(jī)粘度范圍：1-20000cps,，應(yīng)用襯底：玻璃,， PET聚酯， 紙張,，幅寬：90mm, 120mm, 300mm,。
微型磁控濺射鍍膜設(shè)備 參考價(jià)：面議
微型磁控濺射鍍膜設(shè)備這款來自美國的微型磁控濺射系統(tǒng)滿足研究所和研發(fā)部門對(duì)真空薄膜沉積的性能要求，占用空間小,，具有超高的性價(jià)比,，可以向客戶提供優(yōu)質(zhì)的服務(wù)。
超高真空磁控濺射鍍膜系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
超高真空磁控濺射鍍膜系統(tǒng)美國專業(yè)的制造商PVD公司是一家在磁控濺射沉積,，電子束蒸發(fā)沉積,，脈沖激光沉積等領(lǐng)域有著20年制造經(jīng)驗(yàn)。
電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
E-Beam電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)304不銹鋼圓柱形腔體,，標(biāo)準(zhǔn)直徑有18英寸和24英寸,，分子泵或冷凝泵；手動(dòng)傳片或自動(dòng)傳片,適合各種形狀尺寸的小片到200mm大的圓...
金屬有機(jī)化合物化學(xué)氣相沉積鍍膜設(shè)備 參考價(jià)：面議
金屬有機(jī)化合物化學(xué)氣相沉積鍍膜設(shè)備反應(yīng)器的設(shè)計(jì)可以根據(jù)工藝的需要很容易提升到滿足大直徑晶片生產(chǎn)的需要,。我們也能為客戶設(shè)計(jì)以滿足客戶特殊工藝和應(yīng)用的需要,。系統(tǒng)部件...
超高真空多腔室物理氣相沉積鍍膜系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
超高真空多腔室物理氣相沉積鍍膜系統(tǒng)該系統(tǒng)由專業(yè)的沉積設(shè)備商制造,配置多種沉積方式（預(yù)留各種功能接口）,高度靈活,非常適合多種沉積模式的科研.
等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積鍍膜系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積鍍膜系統(tǒng)通常選用射頻淋浴源（RF）或帶有不規(guī)則氣體分布的空心陰極射頻等離子體源作為反應(yīng)源產(chǎn)生等粒子體。部分PECVD可以升級(jí)到PECVD...
等離子體增強(qiáng)原子層沉積鍍膜系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
等離子體增強(qiáng)原子層沉積鍍膜系統(tǒng)一個(gè)基本的原子層沉積循環(huán)包括四個(gè)步驟：脈沖A,，清洗A,，脈沖B和清洗B。沉積循環(huán)不斷重復(fù)直至獲得所需的薄膜厚度,，是制作納米結(jié)構(gòu)從而形...
脈沖激光分子束外延鍍膜系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
脈沖激光分子束外延鍍膜系統(tǒng)憑借著優(yōu)異的性能, PVD公司生產(chǎn)的脈沖激光沉積分子束外延系統(tǒng)在國內(nèi)外擁有較多用戶,，為眾多老師開啟薄膜外延制備的新篇章。
脈沖激光沉積鍍膜系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
脈沖激光沉積鍍膜系統(tǒng)真空腔內(nèi)照射到成膜靶上,，靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume狀等離子體狀態(tài),，然后被堆積到設(shè)在對(duì)面的基板上而成膜,。PLD方法可以獲得擁有...
反應(yīng)離子刻蝕設(shè)備 參考價(jià)：面議
反應(yīng)離子刻蝕設(shè)備為達(dá)到此目的,，必須對(duì)真空度，氣體流量,，離子加速電壓等進(jìn)行佳調(diào)整,，同時(shí)，為得到高密度的等離子體,，需用磁控管施加磁場(chǎng),，以提高加工能力,。我司提供多型號(hào)...
原子層沉積鍍膜系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
原子層沉積鍍膜系統(tǒng)1.ALD （傳統(tǒng)的熱原子層沉積）；2.PEALD （等離子增強(qiáng)原子層沉積）,；3.Powder ALD （粉末樣品的原子層沉積）,；
臺(tái)式磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：面議
臺(tái)式磁控濺射鍍膜儀該系統(tǒng)可以作為以下功能裝置：1，研發(fā)級(jí)R&D鍍膜設(shè)備,，性能優(yōu)異2,，具備所有研發(fā)級(jí)別的鍍膜要求3，高效的沉積速率,，鍍膜時(shí)間快4,， 實(shí)驗(yàn)室中培訓(xùn)的...
金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積鍍膜系統(tǒng)（MOCVD） 參考價(jià)：面議
金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積鍍膜系統(tǒng)（MOCVD）其反應(yīng)器的設(shè)計(jì)可以根據(jù)工藝的需要很容易提升到滿足大直徑晶片生產(chǎn)的需要。我們也能為客戶設(shè)計(jì)以滿足客戶特殊工藝和應(yīng)用的需要...
超高真空多功能薄膜制備系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
超高真空多功能薄膜制備系統(tǒng)此系統(tǒng)可以配置多種沉積方式（預(yù)留各種功能接口）,高度靈活,非常適合多種沉積模式的科研. 高真空條件沉積模式（使用機(jī)械泵+分子泵,，或冷凝...
有機(jī)分子束沉積鍍膜系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
有機(jī)分子束沉積鍍膜系統(tǒng)電子束蒸發(fā)系統(tǒng),、熱蒸發(fā)系統(tǒng)、超高真空蒸發(fā)系統(tǒng),、分子束外延MBE,、有機(jī)分子束沉積OMBD、等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相淀積系統(tǒng)PECVD/ICP Et...
在線量產(chǎn)型磁控濺射鍍膜系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
在線量產(chǎn)型磁控濺射鍍膜系統(tǒng) 高轉(zhuǎn)換效率大容量吸收,，電池可靠性長達(dá)10年抗輻射
離子束刻蝕設(shè)備 參考價(jià)：面議
離子束刻蝕設(shè)備離子拋光離子清洗等離子體灰化等離子體氧化,、氮化表面改性 反應(yīng)刻蝕 生物醫(yī)藥傳感器
PECVD+RIE等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積設(shè)備 參考價(jià)：面議
PECVD+RIE等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積設(shè)備該系統(tǒng)中的PECVD可以沉積高質(zhì)量SiO2薄膜、Si3N4薄膜,、類金剛石薄膜,、硬質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜等,。標(biāo)準(zhǔn)配置射頻（...
反應(yīng)離子刻蝕設(shè)備（美國產(chǎn),，高性價(jià)比） 參考價(jià)：面議
反應(yīng)離子刻蝕設(shè)備（美國產(chǎn),，高性價(jià)比）-聚合物或光阻的等溫各向同性干刻-硅片或玻璃表面清潔-硅表面氧化去除(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
會(huì)員.png)
8