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脈沖激光外延制備鍍膜系統(tǒng)

(PLD MBE)

憑借著優(yōu)異的性能, PVD公司生產(chǎn)的脈沖激光沉積分子束外延系統(tǒng)在國(guó)內(nèi)外擁有較多用戶,，為眾多老師開(kāi)啟薄膜外延制備的新篇章。

PVD公司是美國(guó)主要制造商,，是一家專業(yè)從事脈沖激光沉積分子束外延（PLD MBE）和超高真空薄膜沉積系統(tǒng)及組件的設(shè)計(jì)和制造的公司,，提供超高真空薄膜沉積系統(tǒng),，應(yīng)用于分子束外延、UHV濺射和脈沖激光沉積,。產(chǎn)品主要集中在小型研究開(kāi)發(fā)系統(tǒng)，其應(yīng)用主要包括：
用分子束外延進(jìn)行半導(dǎo)體材料,、ZnO,、GaN、SiGe和金屬/氧化物外延生長(zhǎng),；
UHV磁控濺射磁性薄膜,；
脈沖激光沉積超導(dǎo)薄膜、氧化物和陶瓷材料,。
脈沖激光外延制備鍍膜系統(tǒng)主要配置：
主腔室,，樣品傳輸腔，1100度加熱系統(tǒng),，樣品旋轉(zhuǎn),，PLD靶材操控器及光路，K-cell熱蒸發(fā)源,，電子束蒸發(fā)源,，射頻RF離子源。
應(yīng)用主要包括：
分子束外延系統(tǒng)（MBE）,；
GaAs,、InP和GaSb外延；
HgCdTe外延,；
GaN,、InN和AlN外延；
Ⅱ-Ⅵ族外延,；
SiGe外延,；
Si/金屬/氧化物外延；
超高真空物理氣相沉積（PVD）系統(tǒng),；
磁控濺射系統(tǒng),；
脈沖激光沉積（PLD）系統(tǒng)；
電子束蒸發(fā)系統(tǒng),；
離子束沉積系統(tǒng),；
熱蒸發(fā)系統(tǒng)。



PVD公司已經(jīng)在范圍內(nèi)安裝了超過(guò)100套的超高真空系統(tǒng),。絕大部分的產(chǎn)品都是針對(duì)用戶定制設(shè)計(jì)復(fù)雜的沉積系統(tǒng),。在標(biāo)準(zhǔn)系統(tǒng)制造業(yè)中有著深厚的為用戶定制設(shè)計(jì)的背景，在用戶中具有很好的聲譽(yù),。許多的標(biāo)準(zhǔn)系統(tǒng)初都是起源于針對(duì)某些客戶對(duì)沉積過(guò)程特殊需求的解決方案,與廣大的中國(guó)用戶開(kāi)展更為廣泛的交流與合作,，為廣大的中國(guó)用戶提供PLD MBE和超高真空薄膜沉積系統(tǒng)制造商的產(chǎn)品和服務(wù)。