多功能磁控濺射鍍膜儀(濺射,、熱蒸發(fā),、電子束蒸發(fā))
多種薄膜沉積設備，PECVD,、ALD,、PLD、MBE,、磁控濺射,、電子束蒸發(fā)、熱蒸發(fā)等,。
多功能磁控濺射鍍膜儀(濺射,、熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā))
技術參數
腔體尺寸: ?300mm,400mm高,；
泵體:260l/s Turbo泵,含有泵前過濾膜,；
蒸發(fā)方式: 用戶可選擇熱蒸發(fā)(boat evaporation or crucible), 電子束蒸發(fā)或濺射蒸發(fā)；
樣品夾具: 多類型,有rotation, heating, cooling, biasing,；
樣品尺寸可到?250mm,或者多個小樣品,；
設備大小:一般 495 X 555 X 1302毫米；
多功能磁控濺射鍍膜儀(濺射,、熱蒸發(fā),、電子束蒸發(fā))
主要特點
此系統包含大多數的真空薄膜鍍層技術: 熱蒸發(fā)(boat evaporation or crucible)，電子束蒸發(fā),，濺射沉積,。
這樣我們在一臺設備上可以靈活運用多種膜生長技術,針對各種不同大小和形狀的樣品,非常方便切換沉積模式。
腔體的開放式設計,使得樣品大小從幾毫米到250毫米均可鍍層,。樣品夾具可以輕松固定多個樣品并同時鍍膜,。此系統真空腔內連接一個300mm寬的快速通道門,可以非常方便和快速地切換樣品和靶源。這對于薄膜制備研究機構,面對多種材料增加或改變沉積方式,轉換起來非常方便,并沒有任何空間限制,。
此系統為模塊式設計,可以針對用戶的具體應用來訂制設計結構,。
儀器介紹
在所有的小型高真空鍍膜設備中,此設備功能強大,性能價格比非常好。
鍍膜方式包含了熱蒸發(fā),電子束蒸發(fā)和磁控濺射沉積,。
由于它的模塊化設計,使得多數研發(fā)人員用起來非常方便,針對各種樣品易于轉換沉積條件,是研究人員不可獲缺的鍍膜工具!
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