日韩av大片在线观看欧美成人不卡|午夜先锋看片|中国女人18毛片水多|免费xx高潮喷水|国产大片美女av|丰满老熟妇好大bbbbbbbbbbb|人妻上司四区|japanese人妻少妇乱中文|少妇做爰喷水高潮受不了|美女人妻被颜射的视频,亚洲国产精品久久艾草一,俄罗斯6一一11萝裸体自慰,午夜三级理论在线观看无码

超高真空磁控濺射鍍膜系統(tǒng)

超高真空磁控濺射鍍膜系統(tǒng)（UHV SPUTTER）
儀器介紹:
美國專業(yè)的制造商PVD公司是一家在磁控濺射沉積,，電子束蒸發(fā)沉積，脈沖激光沉積等領(lǐng)域有著20年制造經(jīng)驗,。
我司代理的PVD公司生產(chǎn)的磁控濺射系統(tǒng)可以實現(xiàn)在最大300mm襯底上沉積金屬和電介質(zhì)薄膜,。使用RF、DC或脈沖DC電源的磁控濺射源可以單個模式或者聯(lián)合-沉積模式工作,，以便生產(chǎn)可以對滿足廣泛的薄膜要求,。我司生產(chǎn)的鈦磁控濺射源的尺寸可從1 inch（25mmm)到8inch（200mm)任選 ,并搭配內(nèi)置傾斜裝置以滿足按照沉積工藝進行的微調(diào)。襯底支架符合最大300mm直徑的晶片需求,，并可對晶片加熱至850°C及加載RF偏壓,。磁控濺射系統(tǒng)可按客戶需求增減其他窗口用于諸如殘余氣體分析（RGA）、反射高能電子衍射（RHEED)或橢偏儀（ellipsometry）,。


技術(shù)參數(shù)：
Vacuum Chamber: 304不銹鋼圓柱形腔體,，滿足不同客戶的定制需求。
Pumping: 分子泵或冷凝泵,，機械泵真空系統(tǒng)
Load Lock: 手動傳片或自動傳片,適合各種形狀尺寸的小片到300mm大的圓片,，高真空背景傳遞
Process Control: PC / PLC自動控制界面，菜單控制,，數(shù)據(jù)獲取和遠程控制
In-Situ Monitoring & Control: QCM膜厚監(jiān)控,，光學(xué)膜厚監(jiān)控，RGA殘余氣體分析
Substrate Fixture: 單片,，多片,，星狀襯底夾具
Substrate Holders: 可加熱，冷卻,，偏壓,，旋轉(zhuǎn)
Ion Source: 襯底預(yù)清洗，納米表面改性
Deposition Techniques
Magnetron Sputtering  RF, DC, or Pulsed-DC;具有射頻濺射,，直流濺射,，脈沖直流濺射,。
Glancing Angle Depostion (GLAD)Cathodic Arc Plasma Deposition   傾斜角度濺射。