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臺式磁控濺射鍍膜儀

該系統(tǒng)可以作為以下功能裝置：
1,，研發(fā)級R&D鍍膜設(shè)備,，性能優(yōu)異
2,，具備所有研發(fā)級別的鍍膜要求
3，高效的沉積速率,，鍍膜時間快
4,， 實驗室中培訓(xùn)的最工具

臺式磁控濺射鍍膜儀
主要的特點和先進(jìn)的功能：
1， 臺式,，小型,，快速
2，全自動化程序控制
3,，單靶或多靶聯(lián)合濺射鍍膜,，多路氣體管路
4，共聚焦設(shè)計,，靶槍尺寸：2英寸,，3英寸，4英寸,，襯底可做到200mm,，旋轉(zhuǎn)1-20RPM，以及Load-lock配置
5,，配置干泵+分子泵,，可達(dá)高真空，適用高品質(zhì)薄膜沉積,。
6,， 可做直流濺射，射頻濺射,，100W射頻偏壓（用于襯底表面清洗）

性能價格比高?。?/span>