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T-03半導(dǎo)體濕法工藝真空吸頭PX 4547
SWC-5000全自動兆聲晶圓清洗機PX 3249
濕電子化學(xué)品用PFA瓶耐腐蝕透明pfa取樣瓶PX 4805
濕法刻蝕顯影機-勻膠機PX 3097
ICP-RIE SI 500德國SENTECH等離子刻蝕機PX 5924
JY-CM001金相腐蝕儀PX 3210
Fusions CO2 激光熔融系統(tǒng)PX 2504
PSE V300深硅刻蝕機PX 1950
CESx124UltraT進口濕法刻蝕和剝離系統(tǒng)PX 3531
美國Laurell濕法刻蝕顯影機 EDC-650Mz-8NPPPX 3420
濕法腐蝕清洗系統(tǒng)PX 3332
EDC-650-23濕法刻蝕機EDC-650-8/EDC-650-15/EDC-650-XPX 2320
C20-0215半導(dǎo)體濕法腐蝕專用鑷PX 4547
全自動種植體腐蝕清洗機PX 0
SWC-4000兆聲晶圓(掩模版)清洗機PX 3249
全自動BOE刻蝕機PX 0
高溫磷酸刻蝕機_半導(dǎo)體單片清洗機PX 0
2英寸陶瓷片用四氟花籃耐腐蝕聚四氟清洗架PX 4805
Excite Pharos 飛秒激光剝蝕系統(tǒng)PX 2504
Analyte Excite 準分子激光剝蝕系統(tǒng)PX 2504
IRIDIA極速成像準分子 激光剝蝕系統(tǒng)PX 2504
LSX-213 G2+ 固態(tài)激光剝蝕系統(tǒng)PX 2504
Fusions Diode 激光熔融系統(tǒng)PX 2504
RIE-1C緊湊型刻蝕設(shè)備PX 1950
RIE-802BCT深硅刻蝕設(shè)備PX 1950
RIE-800BCT深硅刻蝕設(shè)備PX 1950
RIE-800iPB電感耦合等離子體刻蝕設(shè)備PX 1950
GSE C200多功能刻蝕機PX 1950
NMC 612G12英寸金屬刻蝕機PX 1950
GDE C200系列高密度 刻蝕機PX 1950
customized硅片腐蝕清洗機PX 1950
ELEDE® 380系列芯片刻蝕機PX 1950
NMC 508系列CCP介質(zhì)刻蝕機PX 1950
NMC 508系列ICP 刻蝕機PX 1950
RIE-400iPB深硅刻蝕設(shè)備PX 1950
PlasmaPro 800 RIE反應(yīng)性離子刻蝕系統(tǒng)RIEPX 1950
PlasmaPro 80 RIE反應(yīng)性離子刻蝕系統(tǒng)RIEPX 1950
HSE系列深硅刻蝕機PX 1950
晶片腐蝕機PX 0
RHXX-AC200wafer acid etchingPX 0
薄膜生長設(shè)備
工藝測量和檢測設(shè)備
集成電路測試與分選設(shè)備
光刻及涂膠顯影設(shè)備
熱工藝設(shè)備/熱處理設(shè)備
硅片制備/晶體生長設(shè)備
掩模版和中間掩模版制造設(shè)備
離子注入設(shè)備
干法工藝設(shè)備
濕法工藝設(shè)備
組裝與封裝設(shè)備
其它半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備
半導(dǎo)體濕法工藝真空吸頭
半導(dǎo)體濕法腐蝕專用鑷
JY-CM001金相腐蝕儀
Fusions CO2 激光熔融系統(tǒng)
Excite Pharos 飛秒激光剝蝕系統(tǒng)
Analyte Excite 準分子激光剝蝕系統(tǒng)
IRIDIA極速成像準分子 激光剝蝕系統(tǒng)
LSX-213 G2+ 固態(tài)激光剝蝕系統(tǒng)
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