2 設備名稱：晶片腐蝕機

2 設備型號：RHXX-待定

2 制作材質：PP

2 處理能力：每槽2籃6寸或1籃8寸

2 整機尺寸：約2000mm(L) ×1300mm(W) ×2400mm（H）

晶片腐蝕機主體構造特點

由于是一個酸性的環(huán)境,，我們設備的排風方式,，臺面下抽風為主，背部,、頂部排風的綜合排廢氣系統(tǒng),，槽下有單獨的抽風裝置，同時工藝槽采用自動供液裝置,。

設備結構外型,，整機主要由機架,、工藝槽體,、機械手系統(tǒng)、排風系統(tǒng),、電控系統(tǒng),、水路系統(tǒng)及氣路系統(tǒng)等組成。

由于工藝槽內藥液腐蝕性強,，設備需要做防腐處理：（1）設備機架采用鋼結構骨架包塑,；（2）殼體采用瓷白色PP板材焊接成型，制程區(qū)由耐酸堿PP板材組合焊接而成：（3）電氣區(qū)設置在設備后上部,，與濕區(qū)和管路區(qū)隔離,；（4）槽體材料選用耐相應溶液腐蝕的材料；（5）機械手探人濕區(qū)部分的零部件表面噴氟或套PFA管處理或為鐵氟龍加工件,。

設備的排風系統(tǒng)由引風窗和排風口組成,，排風口位于設備后頂都。排風板為可拆卸可調結構,，以便清除可能產生的結晶,。排風口處設有自動調節(jié)風門，即上電打開風門,，斷電關閉風門,。具有風壓檢測功能，以及氮氣,、壓縮空氣壓力報警功能,。設備前、后下方均設有維護門,。臺面為多孔結構,，便于臺面上沖洗水,、液的排出。機械手抓取部位位于液面以上,，以防止傳遞過程中的交叉污染,。所有和晶片直接接觸的化學介質中不允許有金屬出現(xiàn)。

設備臺面排列布置如（臺面布置圖）所示,，共3個腐蝕工作位,，3個水洗工位；所有槽工作在潔凈,、全封閉的結構中,，工作參數(shù)通過觸摸屏設置。每個工位均設置單獨控制按鈕（開始,，停止,，急停），可分別控制4個工藝位,；將來清洗片盒手工放在機械手上,，操作人員按“開始/start按鈕”后，進行工藝動作,；清洗完成后系統(tǒng)發(fā)出報警提出信號,，待人工手動取出。設備臺面的左,、右前方分別配置PP材料的水（2把,，2把水槍），便于工件及設備的清理,；設備整機放置于一個PP承露盤中,，防止藥液漏液至高架地板，承露盤中設置漏液傳感器,，漏液報警,。