NMC 508系列 CCP介質(zhì)刻蝕機(jī)
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
- 公司名稱 深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司
- 品牌 北方華創(chuàng)
- 型號(hào) NMC 508系列
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
- 更新時(shí)間 2024/9/5 10:13:55
- 訪問(wèn)次數(shù) 386
產(chǎn)品標(biāo)簽
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1. 產(chǎn)品概述
NMC 508系列 CCP介質(zhì)刻蝕機(jī),，多頻解耦設(shè)計(jì),，實(shí)現(xiàn)優(yōu)異的均勻性及高深寬比介質(zhì)刻蝕。
2. 設(shè)備用途/原理
NMC 508系列 CCP介質(zhì)刻蝕機(jī),，多頻解耦設(shè)計(jì),，實(shí)現(xiàn)優(yōu)異的均勻性及高深寬比介質(zhì)刻蝕。應(yīng)用域廣泛,，涵蓋Si power,、SiC Power,、GaN Power,、MEMS、硅光等,。工藝種類覆蓋道HM刻蝕,、CT刻蝕、Spacer刻蝕,，后道Via刻蝕,、PAD刻蝕。靈活的系統(tǒng)配置,，適合研發(fā),、中試線、大規(guī)模生產(chǎn)線的不同應(yīng)用,。采用Clean Mode量產(chǎn),，道、后道均可實(shí)現(xiàn)優(yōu)異的量產(chǎn)穩(wěn)定性及更高的MTBC,。
3. 設(shè)備特點(diǎn)
晶圓尺寸 6/8 英寸兼容,。適用材料 氧化硅、氮化硅,、氮氧化硅,。適用工藝 鈍化層刻蝕、硬掩膜刻蝕,、接觸孔刻蝕,、導(dǎo)線孔刻蝕,、側(cè)襯刻蝕、回刻,、自對(duì)準(zhǔn)刻蝕,。適用域 科研、集成電路,、化合物半導(dǎo)體,。
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