1. 產(chǎn)品概述

ELEDE® 380系列 芯片刻蝕機(jī)，優(yōu)良的等離子體發(fā)生裝置,，適用多種材料刻蝕,，工藝窗口寬。

2. 設(shè)備用途/原理

優(yōu)良的等離子體發(fā)生裝置,，適用多種材料刻蝕,，工藝窗口寬。多片式托盤,，實(shí)現(xiàn)高產(chǎn)能,，同時確保優(yōu)異的刻蝕均勻性。全路徑全真空,，全自動晶圓傳輸,，顆粒控制優(yōu),。工藝套件設(shè)計(jì),，更長的耗材壽命。

3. 設(shè)備特點(diǎn)

晶圓尺寸4,、6 英寸及特殊尺寸,。適用材料  藍(lán)寶石、氮化鎵,、氧化硅 / 氧化鈦,、砷化鎵、磷化鎵,、鋁鎵銦磷,、氧化硅、氮化硅,、鈦鎢,、有機(jī)物。適用工藝 PSS 刻蝕,、電刻蝕、深槽隔離刻蝕,、介質(zhì)反射層（DBR）刻蝕,、紅黃光刻蝕、鈍化層刻蝕、金屬阻擋層刻蝕,。適用域化合物半導(dǎo)體,。