1. 產(chǎn)品概述

GSE C200 多功能刻蝕機等離子體源設計,，保證良好的刻蝕均勻性.GSE C200采用高密度等離子體源,，刻蝕速率高、均勻性好,、顆?？刂颇芰姟⒁拙S護,、性能穩(wěn)定,。其在硅、氧化硅,、氮化硅,、氮化鎵、砷化鎵,、磷化銦,、鈮酸鋰、金屬,、有機物等多種材料的刻蝕上性能優(yōu)良,。本刻蝕機已進入多家IC Fab主流產(chǎn)線以及化合物等新興應用量產(chǎn)產(chǎn)線，具有快速導產(chǎn)能力,，同時針對大學,、科研院所提供高性價比配置。

2. 設備用途/原理

GSE C200 多功能刻蝕機，等離子體源設計,，保證良好的刻蝕均勻性,。適用于濾波、光電,、功率等多個應用領域的多種材料刻蝕與失效分析,。刻蝕材料種類覆蓋硅、氮化硅,、氧化硅,、銻化鎵、聚酰亞胺,、鈮,、金屬、有機物等,。提供研發(fā)所需的豐富的工藝數(shù)據(jù)庫支持,。

3. 設備特點

晶圓尺寸 8 英寸及以下，適用材料 硅,、氧化硅,、氮化硅、氮化鎵,、金屬、有機物等,，適用工藝多種材料刻蝕工藝,，適用領域科研。