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全柜式涂膠顯影機(jī)該設(shè)備用于 8 寸晶圓的涂膠、顯影,、烘烤工藝；設(shè)備包括主要的工藝模塊：涂膠模塊 COT,顯影模塊 DEV,、熱 盤(pán) HP 等（各腔體間有擋板隔開(kāi)）...

自動(dòng)滴膠勻膠機(jī)，MSC-200T-D桌上型半自動(dòng)旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)用于對(duì)均勻性和一致性要求較高的表面涂布工藝,，將光刻膠溶液自動(dòng)涂覆在硅片、磷化銦,、碳化硅,、氮化鎵,、鈮酸鋰...

桌上型半自動(dòng)顯影機(jī)MSD-150D主要應(yīng)用于曝光后的顯影工藝,。該設(shè)備主要由顯影腔單元,、自動(dòng)擺臂單元、 以及供液系統(tǒng),、主軸系統(tǒng),、控制系統(tǒng)及排液系統(tǒng)等組成,，整機(jī)采用...

膜厚測(cè)量?jī)x本設(shè)備利用反射干涉的原理進(jìn)行無(wú)損測(cè)量，測(cè)量吸收或者透明襯底上薄膜的厚度以及折射率,，同時(shí)提供樣品反射率，測(cè)量精度達(dá)到埃級(jí)的分辨率,，測(cè)量迅速,，操作簡(jiǎn)單,，界...

全自動(dòng)干法去膠機(jī)產(chǎn)品介紹：1設(shè)備名稱：全自動(dòng)干法去膠機(jī)2設(shè)備型號(hào)：CGST31003設(shè)備原理：ICP4晶圓尺寸Wafer size: 8 inch（4或6 in...

全自動(dòng)去膠機(jī)產(chǎn)品介紹：1設(shè)備名稱：全自動(dòng)干法去膠機(jī)2設(shè)備型號(hào)：CGST31003設(shè)備原理：ICP4晶圓尺寸Wafer size: 8 inch（4或6 inch...

真空等離子清洗機(jī)(Plasma cleaner),氣體通過(guò)激勵(lì)電源離化成等離子態(tài)，等離子體作用于產(chǎn)品 表面,，清洗產(chǎn)品表面污染物,，提高表面活性,，增強(qiáng)附著性能,。等離...

光刻工藝設(shè)備產(chǎn)品概述：應(yīng)用于3D封裝,、LED、微機(jī)電系統(tǒng),、化合物半導(dǎo)體,、功率器件等領(lǐng)域主要配置：自動(dòng)對(duì)準(zhǔn),、自動(dòng)曝光、LED光源,、機(jī)器視覺(jué)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng),、高精度硅片承載...

CG-MLC6系列直寫(xiě)光刻機(jī)是一款精巧型光刻產(chǎn)品,。該設(shè)備采用數(shù)字光刻技術(shù),，無(wú)需掩模 版，能夠直接將版圖信息轉(zhuǎn)移到涂有光刻膠的襯底上,。CG-MLC6系列功能靈活,、...

半自動(dòng)光刻機(jī)產(chǎn)品概述：應(yīng)用于3D封裝、LED,、微機(jī)電系統(tǒng),、化合物半導(dǎo)體、功率器件等領(lǐng)域主要配置：自動(dòng)對(duì)準(zhǔn)、自動(dòng)曝光,、LED光源,、機(jī)器視覺(jué)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)、高精度硅片承載...

實(shí)驗(yàn)室無(wú)掩膜曝光機(jī)CG-MLC6系列直寫(xiě)光刻機(jī)是一款精巧型光刻產(chǎn)品,。該設(shè)備采用數(shù)字光刻技術(shù),，無(wú)需掩模 版，能夠直接將版圖信息轉(zhuǎn)移到涂有光刻膠的襯底上,。CG-ML...

12寸烤膠機(jī)/加熱板HPR-12廣泛應(yīng)用于物理、材料冶金,、高分子聚合物、生命科學(xué)等各個(gè)領(lǐng)域。在科研方面隨著近幾年半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展迅猛,，針對(duì)旋轉(zhuǎn)涂膠后、曝光后的烘烤...

烤膠機(jī)產(chǎn)品特點(diǎn)：熱均勻性：采用單片機(jī)和集成電路板設(shè)計(jì),， 同時(shí)采用密集加熱 管澆灌一體成型,，均勻性更高,。體積：外觀小巧精致，以及超大按鍵更適宜手套箱內(nèi)操作使用耐腐...

鈣鈦礦旋涂?jī)x應(yīng)用：在高速旋轉(zhuǎn)的基片上,，滴注各類膠液，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上,，厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同，也和旋轉(zhuǎn)速度及時(shí)間有...

旋涂?jī)x應(yīng)用：在高速旋轉(zhuǎn)的基片上,，滴注各類膠液，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上,，厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同,，也和旋轉(zhuǎn)速度及時(shí)間有關(guān)。應(yīng)...

桌上型旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)將溶液涂覆在硅片、FTO,、ITO,、石英,、陶瓷等基片上形成薄膜，主要應(yīng)用于鈣鈦礦電池和光刻膠涂敷成膜等領(lǐng)域,。主要應(yīng)用于4,、6寸樣品,。該款可為客戶提...

針筒式旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)MSC-200T-D桌上型半自動(dòng)旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)用于對(duì)均勻性和一致性要求較高的表面涂布工藝,，將光刻膠溶液自動(dòng)涂覆在硅片、磷化銦,、碳化硅,、氮化鎵、鈮酸鋰...

桌上型成像儀MSD-150D主要應(yīng)用于曝光后的顯影工藝,。該設(shè)備主要由顯影腔單元、自動(dòng)擺臂單元,、以及供液系統(tǒng)、主軸系統(tǒng),、控制系統(tǒng)及排液系統(tǒng)等組成,，整機(jī)采用框架結(jié)構(gòu)...

桌上型顯影機(jī)MSD-150D主要應(yīng)用于曝光后的顯影工藝,。該設(shè)備主要由顯影腔單元,、自動(dòng)擺臂單元、 以及供液系統(tǒng),、主軸系統(tǒng),、控制系統(tǒng)及排液系統(tǒng)等組成,，整機(jī)采用框架結(jié)...

勻膠機(jī)設(shè)備簡(jiǎn)介：桌上型旋轉(zhuǎn)涂布機(jī),，用于對(duì)均勻性要求較高的表面涂布工藝,，將光刻膠溶液手動(dòng)涂覆在硅片、磷化銦,、碳化硅,、氮化鎵、鈮酸鋰等基片上形成薄膜,，主要應(yīng)用于12...