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合肥重光電子科技有限公司
中級(jí)會(huì)員 | 第1年

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  • 全柜式涂膠顯影一體機(jī)

    一,、概述 SHD6-BE涂膠顯影系統(tǒng)一體機(jī)主要由勻膠單元、烤膠單元,、顯影單元等部分組成,，該設(shè)備針對(duì)高校研究所實(shí)驗(yàn)室，特點(diǎn)是占地面積小,，性價(jià)價(jià)比更高,。整機(jī)采用框架...

    型號(hào)： SHD6-BE 所在地：合肥市參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2025/5/9 8:53:35 對(duì)比
    柜式勻膠機(jī)柜式顯影機(jī)柜式一體機(jī)柜式涂膠顯影集成式黃光區(qū)設(shè)備
  • 全柜式涂膠顯影機(jī)

    全柜式涂膠顯影機(jī)該設(shè)備用于 8 寸晶圓的涂膠、顯影,、烘烤工藝,；設(shè)備包括主要的工藝模塊：涂膠模塊 COT,顯影模塊 DEV,、熱 盤 HP 等（各腔體間有擋板隔開）...

    型號(hào)： 所在地：合肥市參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2025/4/21 9:00:55 對(duì)比
    涂膠機(jī)顯影機(jī)旋涂儀自動(dòng)勻膠機(jī)
  • 全自動(dòng)干法去膠機(jī)

    全自動(dòng)干法去膠機(jī)產(chǎn)品介紹：1設(shè)備名稱：全自動(dòng)干法去膠機(jī)2設(shè)備型號(hào)：CGST31003設(shè)備原理：ICP4晶圓尺寸Wafer size: 8 inch（4或6 in...

    型號(hào)： CGST3100 所在地：合肥市參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2025/4/21 8:57:53 對(duì)比
    干法去膠機(jī)等離子去膠機(jī)微波去膠機(jī)ICP剝離機(jī)
  • 桌上型半自動(dòng)顯影機(jī)

    桌上型半自動(dòng)顯影機(jī)MSD-150D主要應(yīng)用于曝光后的顯影工藝。該設(shè)備主要由顯影腔單元,、自動(dòng)擺臂單元、 以及供液系統(tǒng),、主軸系統(tǒng),、控制系統(tǒng)及排液系統(tǒng)等組成，整機(jī)采用...

    型號(hào)： MSD-150D 所在地：合肥市參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2025/4/21 8:54:48 對(duì)比
    顯影涂膠顯影成像裝置光刻顯影
  • 膜厚測(cè)量儀

    膜厚測(cè)量儀本設(shè)備利用反射干涉的原理進(jìn)行無損測(cè)量,，測(cè)量吸收或者透明襯底上薄膜的厚度以及折射率,，同時(shí)提供樣品反射率，測(cè)量精度達(dá)到埃級(jí)的分辨率,，測(cè)量迅速,，操作簡(jiǎn)單，界...

    型號(hào)： CGSR系列 所在地：合肥市參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2025/4/17 10:11:41 對(duì)比
    膜厚儀測(cè)量膜厚反射膜臺(tái)階儀
  • 光學(xué)膜厚儀

    本設(shè)備利用反射干涉的原理進(jìn)行無損測(cè)量,，測(cè)量吸收或者透明襯底上薄膜的厚度以及折射率,，同時(shí)提供樣品反射率，測(cè)量精度達(dá)到埃級(jí)的分辨率,，測(cè)量迅速,，操作簡(jiǎn)單，界面友好,，測(cè)...

    型號(hào)： CGSR系列 所在地：合肥市參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2025/4/17 10:11:41 對(duì)比
    膜厚儀測(cè)量膜厚反射膜臺(tái)階儀
  • 紫外臭氧清洗機(jī)

    UV 光清洗機(jī)擁有工業(yè)級(jí)別的清洗效率和效果,，采用更簡(jiǎn)易操作的抽屜式托盤設(shè)計(jì)，廣 泛應(yīng)用于光伏（鈣鈦礦電池）,，半導(dǎo)體芯片（晶圓）和光學(xué)元件及光通訊領(lǐng)域,，適用于中小...

    型號(hào)： UV-8 所在地：合肥市參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2025/4/17 10:11:41 對(duì)比
    清洗機(jī)UV臭氧鈣鈦礦電池導(dǎo)電玻璃表面改善
  • 12寸烤膠機(jī)/加熱板

    12寸烤膠機(jī)/加熱板HPR-12廣泛應(yīng)用于物理、材料冶金,、高分子聚合物,、生命科學(xué)等各個(gè)領(lǐng)域。在科研方面隨著近幾年半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展迅猛,，針對(duì)旋轉(zhuǎn)涂膠后,、曝光后的烘烤...

    型號(hào)： HPR-12 所在地：合肥市參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2025/4/17 10:11:41 對(duì)比
    烤膠機(jī)加熱板加熱臺(tái)烘膠臺(tái)
  • 桌上型旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)

    桌上型旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)將溶液涂覆在硅片、FTO,、ITO,、石英,、陶瓷等基片上形成薄膜,，主要應(yīng)用于鈣鈦礦電池和光刻膠涂敷成膜等領(lǐng)域,。主要應(yīng)用于4,、6寸樣品,。該款可為客戶提...

    型號(hào)： MSC-150T 所在地：合肥市參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2025/4/17 10:11:41 對(duì)比
    勻膠機(jī)旋涂儀涂膠機(jī)甩膠機(jī)
  • 程控烤膠機(jī)

    HPP-8是針對(duì)半導(dǎo)體工藝生產(chǎn)中晶圓烘烤而設(shè)計(jì)的一款產(chǎn)品.采用新穎的數(shù)字式加觸摸屏面板,，精準(zhǔn)的控制熱板表面溫度,；堅(jiān)固耐腐蝕的鋁合金面板,，表面陽極氧化處理，保障均...

    型號(hào)： HPP-8 所在地：合肥市參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2025/4/17 10:11:41 對(duì)比
    烤膠機(jī)加熱板烘膠臺(tái)熱臺(tái)光刻固化
  • 鈣鈦礦旋涂儀

    鈣鈦礦旋涂儀應(yīng)用：在高速旋轉(zhuǎn)的基片上,，滴注各類膠液,，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上，厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同,，也和旋轉(zhuǎn)速度及時(shí)間有...

    型號(hào)： MSC-75T 所在地：合肥市參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2025/4/17 10:11:41 對(duì)比
    勻膠機(jī)旋涂儀涂膠機(jī)甩膠機(jī)鈣鈦礦專用旋涂儀
  • 旋涂儀

    旋涂儀應(yīng)用：在高速旋轉(zhuǎn)的基片上,，滴注各類膠液，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上,，厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同,，也和旋轉(zhuǎn)速度及時(shí)間有關(guān)。應(yīng)...

    型號(hào)： MSC-75T 所在地：合肥市參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2025/4/17 10:11:41 對(duì)比
    勻膠機(jī)旋涂儀涂膠機(jī)甩膠機(jī)鈣鈦礦專用旋涂儀
  • 桌上型旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)

    應(yīng)用：在高速旋轉(zhuǎn)的基片上,，滴注各類膠液,，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上，厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同,，也和旋轉(zhuǎn)速度及時(shí)間有關(guān),。應(yīng)用：在...

    型號(hào)： MSC-75T 所在地：合肥市參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2025/4/17 10:11:41 對(duì)比
    勻膠機(jī)旋涂儀涂膠機(jī)甩膠機(jī)鈣鈦礦專用旋涂儀
  • 等離子清洗機(jī)

    真空等離子清洗機(jī)(Plasma cleaner),氣體通過激勵(lì)電源離化成等離子態(tài)，等離子體作用于產(chǎn)品 表面,，清洗產(chǎn)品表面污染物,，提高表面活性，增強(qiáng)附著性能,。等離...

    型號(hào)： CG-P系列 所在地：合肥市參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2025/4/17 10:11:41 對(duì)比
    去膠機(jī)清洗機(jī)射頻電源干法清洗
  • 光刻工藝設(shè)備

    光刻工藝設(shè)備產(chǎn)品概述：應(yīng)用于3D封裝,、LED、微機(jī)電系統(tǒng),、化合物半導(dǎo)體,、功率器件等領(lǐng)域主要配置：自動(dòng)對(duì)準(zhǔn)、自動(dòng)曝光,、LED光源,、機(jī)器視覺對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)、高精度硅片承載...

    型號(hào)： CG-920 所在地：合肥市參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2025/4/17 10:11:30 對(duì)比
    光刻機(jī)曝光機(jī)光刻系統(tǒng)曝光系統(tǒng)光刻工藝
  • 全自動(dòng)去膠機(jī)

    全自動(dòng)去膠機(jī)產(chǎn)品介紹：1設(shè)備名稱：全自動(dòng)干法去膠機(jī)2設(shè)備型號(hào)：CGST31003設(shè)備原理：ICP4晶圓尺寸Wafer size: 8 inch（4或6 inch...

    型號(hào)： CGST3100 所在地：合肥市參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2025/4/17 10:11:30 對(duì)比
    干法去膠機(jī)等離子去膠機(jī)微波去膠機(jī)ICP剝離機(jī)
  • 直寫光刻機(jī)

    CG-MLC6系列直寫光刻機(jī)是一款精巧型光刻產(chǎn)品,。該設(shè)備采用數(shù)字光刻技術(shù),，無需掩模 版，能夠直接將版圖信息轉(zhuǎn)移到涂有光刻膠的襯底上,。CG-MLC6系列功能靈活,、...

    型號(hào)： CG-MLC6 所在地：合肥市參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2025/4/17 10:11:30 對(duì)比
    激光直寫無掩膜光刻機(jī)曝光機(jī)海德堡
  • 桌上型成像儀

    MSD-150D主要應(yīng)用于曝光后的顯影工藝。該設(shè)備主要由顯影腔單元,、自動(dòng)擺臂單元,、 以及供液系統(tǒng)、主軸系統(tǒng),、控制系統(tǒng)及排液系統(tǒng)等組成,，整機(jī)采用框架結(jié)構(gòu),，外表為鏡...

    型號(hào)： MSD-150D 所在地：合肥市參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2025/4/17 10:11:30 對(duì)比
    顯影涂膠顯影成像裝置光刻顯影
  • 桌上型顯影機(jī)

    桌上型顯影機(jī)MSD-150D主要應(yīng)用于曝光后的顯影工藝。該設(shè)備主要由顯影腔單元,、自動(dòng)擺臂單元,、 以及供液系統(tǒng)、主軸系統(tǒng),、控制系統(tǒng)及排液系統(tǒng)等組成,，整機(jī)采用框架結(jié)...

    型號(hào)： MSD-150D 所在地：合肥市參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2025/4/17 10:11:30 對(duì)比
    顯影涂膠顯影成像裝置光刻顯影
  • 自動(dòng)滴膠勻膠機(jī)

    自動(dòng)滴膠勻膠機(jī)，MSC-200T-D桌上型半自動(dòng)旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)用于對(duì)均勻性和一致性要求較高的表面涂布工藝,，將光刻膠溶液自動(dòng)涂覆在硅片、磷化銦,、碳化硅,、氮化鎵、鈮酸鋰...

    型號(hào)： MSC-200T-... 所在地：合肥市參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2025/4/17 10:11:30 對(duì)比
    勻膠機(jī)旋涂儀涂布機(jī)涂膠機(jī)自動(dòng)滴膠勻膠機(jī)
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