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合肥重光電子科技有限公司
中級會(huì)員 | 第1年

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當(dāng)前位置：合肥重光電子科技有限公司>>光刻機(jī)>> CG-MLC6實(shí)驗(yàn)室無掩膜曝光機(jī)

實(shí)驗(yàn)室無掩膜曝光機(jī)

參   考   價(jià): ￥ 1

訂  貨  量: ≥1 件

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號CG-MLC6

品       牌其他品牌

廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

產(chǎn)品資料查看pdf文檔

所  在  地合肥市

更新時(shí)間：2025-03-22 17:46:46瀏覽次數(shù)：19次

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實(shí)驗(yàn)室無掩膜曝光機(jī)

CG-MLC6系列直寫光刻機(jī)是一款精巧型光刻產(chǎn)品,。該設(shè)備采用數(shù)字光刻技術(shù),，無需掩模 版,，能夠直接將版圖信息轉(zhuǎn)移到涂有光刻膠的襯底上,。CG-MLC6系列直寫光刻機(jī)功能靈活,、體積小,、性價(jià)比高,，專為各高校,、實(shí)驗(yàn)室及研究機(jī)構(gòu)量身打造。其主要應(yīng)用產(chǎn)品包括各類MEMS制作（如MEMS麥克風(fēng),、壓力傳感器,、 加速度計(jì)、陀螺儀,、超聲波傳感器,、壓電傳感器）、掩模板制作等,。

產(chǎn)品特點(diǎn)：

數(shù)字光刻系統(tǒng)

微納器件無掩模版直寫光刻

光掩模版制作

3D結(jié)構(gòu)曝光功能                                        

自動(dòng)對準(zhǔn)功能

用戶自定義標(biāo)記對準(zhǔn)功能

可視化定點(diǎn)曝光功能

自動(dòng)聚焦功能                                          

不規(guī)則樣片曝光

快速,、精細(xì)兩種曝光模式

支持多種數(shù)據(jù)格式（GDSⅡ/ Gerber/ O DB++）

背部對準(zhǔn)功能（選配）

實(shí)驗(yàn)室無掩膜曝光機(jī)                          

405nm LD光源（375nm可選）


參數(shù)：

型號

MLC Lite

ModeⅠ

Mode  Ⅱ

Mode Ⅲ

最小特征尺寸

0.5μm

1μm

2μm

最小線寬線距

0.8μm

1.2μm

2.5μm

CD均勻性

10%

10%

10%

兩層對位精度 5x5m㎡

500nm

800nm

1000nm

兩層對位精度 50x50m㎡

800nm

1000nm

1500nm

產(chǎn)能

50mm2/min

100mm2/min

300mm2/min

最小基板尺寸

5mm x 5mm

基板厚度

0.1 - 12mm(可選)

曝光面積

150mm x 150mm

灰度曝光

可選128階

曝光光源

Laser, 405nm or 375nm



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