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當前位置:合肥重光電子科技有限公司>>光刻機>> CG-920半自動光刻機
產(chǎn)品型號CG-920
品 牌其他品牌
廠商性質(zhì)生產(chǎn)商
所 在 地合肥市
更新時間:2025-03-22 17:41:18瀏覽次數(shù):7次
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掩模版 、硅片 | |
硅片尺寸 | 8"/ 6" |
硅片厚度 | max.10 mm |
掩模版尺寸 | 9" ×9"/ 7" ×7" (SEMI) |
掩模版厚度 | max.6.35 mm |
曝光模式 | |
接觸方式 | 軟接觸,、硬接觸,、真空接觸 |
曝光間隙 | 0~1000 μm |
間隙精度 | 1 μm |
曝光強度 | 0 ~ ≥40mw/cm 2 |
曝光鏡頭 | |
光源類型 | LED |
曝光波長 | 365nm,405nm,, |
光強均勻性 | ≤4% 8" / ≤3% 6" |
分辨率 | 真空接觸≤1um |
硬接觸 ≤1.5μm | |
軟接觸≤2.2μm | |
間隙 ≤3.6μm | |
對 準 模 式 | |
頂部對準 | < ±1 μm |
可選配底部對準 | < ±2 μm |
頂部對準調(diào)焦范圍 | 5 mm |
底部對準調(diào)焦范圍 | 5 mm |
硅 片 承 載 臺 | |
運動范圍 | X:±5mmY:±5mmθ : ±5° |
分辨率 | 0.04 μm |
頂 部 對 準 鏡 頭 | |
移動范圍 | 6" 40~150mm |
8" 40~200 mm | |
底部對準鏡頭 | |
移動范圍 | 6" 40~150mm |
8" 40~200 mm | |
用 戶 界 面 | |
Windows 10 | 可存儲工藝菜單 |
場務需求 | |
真空< -0.8 kPa ; 氮氣> 0.5 Mpa ; 壓縮空氣: 0.6~0.8 Mpa | |
供 電 需 求 | |
電壓: 230 V ± 10% | 頻率: 50~60 Hz |
尺 寸 重 量 | |
長 ×寬 ×: 1200 × 1000 mm | 高: 1973 mm重量 : ~ 400 kg |
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