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勻膠機設(shè)備簡介：桌上型旋轉(zhuǎn)涂布機,，用于對均勻性要求較高的表面涂布工藝,，將光刻膠溶液手動涂覆在硅片、磷化銦,、碳化硅,、氮化鎵、鈮酸鋰等基片上形成薄膜,，主要應(yīng)用于12...

MAS4-BE光刻系統(tǒng)一體機主要由勻膠單元,、烤膠單元、曝光單元,、顯影單元等部分組成,，該設(shè)備針對高校研究所實驗室，特點是占地面積小,，性價價比更高,。整機采用框架結(jié)構(gòu)...

半自動光刻機產(chǎn)品概述：應(yīng)用于3D封裝、LED,、微機電系統(tǒng),、化合物半導(dǎo)體、功率器件等領(lǐng)域主要配置：自動對準(zhǔn),、自動曝光,、LED光源、機器視覺對準(zhǔn)系統(tǒng),、高精度硅片承載...

針筒式旋轉(zhuǎn)涂布機MSC-200T-D桌上型半自動旋轉(zhuǎn)涂布機用于對均勻性和一致性要求較高的表面涂布工藝,，將光刻膠溶液自動涂覆在硅片、磷化銦,、碳化硅,、氮化鎵、鈮酸鋰...

設(shè)備簡介：桌上型旋轉(zhuǎn)涂布機，用于對均勻性要求較高的表面涂布工藝,，將光刻膠溶液手動涂覆在硅片,、磷化銦、碳化硅,、氮化鎵,、鈮酸鋰等基片上形成薄膜，主要應(yīng)用于12寸以內(nèi)...

實驗室無掩膜曝光機CG-MLC6系列直寫光刻機是一款精巧型光刻產(chǎn)品,。該設(shè)備采用數(shù)字光刻技術(shù),，無需掩模 版，能夠直接將版圖信息轉(zhuǎn)移到涂有光刻膠的襯底上,。CG-ML...

烤膠機產(chǎn)品特點：熱均勻性：采用單片機和集成電路板設(shè)計,， 同時采用密集加熱 管澆灌一體成型，均勻性更高,。體積：外觀小巧精致,，以及超大按鍵更適宜手套箱內(nèi)操作使用耐腐...