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一、概述 SHD6-BE涂膠顯影系統(tǒng)一體機(jī)主要由勻膠單元,、烤膠單元,、顯影單元等部分組成，該設(shè)備針對高校研究所實(shí)驗(yàn)室,，特點(diǎn)是占地面積小,，性價(jià)價(jià)比更高。整機(jī)采用框架...

全柜式涂膠顯影機(jī)該設(shè)備用于 8 寸晶圓的涂膠,、顯影,、烘烤工藝；設(shè)備包括主要的工藝模塊：涂膠模塊 COT,顯影模塊 DEV,、熱 盤 HP 等（各腔體間有擋板隔開）...

桌上型半自動(dòng)顯影機(jī)MSD-150D主要應(yīng)用于曝光后的顯影工藝,。該設(shè)備主要由顯影腔單元、自動(dòng)擺臂單元,、 以及供液系統(tǒng),、主軸系統(tǒng)、控制系統(tǒng)及排液系統(tǒng)等組成,，整機(jī)采用...

桌上型旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)將溶液涂覆在硅片,、FTO,、ITO、石英,、陶瓷等基片上形成薄膜,，主要應(yīng)用于鈣鈦礦電池和光刻膠涂敷成膜等領(lǐng)域。主要應(yīng)用于4,、6寸樣品,。該款可為客戶提...

鈣鈦礦旋涂儀應(yīng)用：在高速旋轉(zhuǎn)的基片上，滴注各類膠液,，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上,，厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同，也和旋轉(zhuǎn)速度及時(shí)間有...

旋涂儀應(yīng)用：在高速旋轉(zhuǎn)的基片上,，滴注各類膠液,，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上，厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同,，也和旋轉(zhuǎn)速度及時(shí)間有關(guān),。應(yīng)...

應(yīng)用：在高速旋轉(zhuǎn)的基片上，滴注各類膠液,，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上,，厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同，也和旋轉(zhuǎn)速度及時(shí)間有關(guān),。應(yīng)用：在...

MSD-150D主要應(yīng)用于曝光后的顯影工藝,。該設(shè)備主要由顯影腔單元、自動(dòng)擺臂單元,、 以及供液系統(tǒng),、主軸系統(tǒng)、控制系統(tǒng)及排液系統(tǒng)等組成,，整機(jī)采用框架結(jié)構(gòu),，外表為鏡...

桌上型顯影機(jī)MSD-150D主要應(yīng)用于曝光后的顯影工藝。該設(shè)備主要由顯影腔單元,、自動(dòng)擺臂單元,、 以及供液系統(tǒng)、主軸系統(tǒng),、控制系統(tǒng)及排液系統(tǒng)等組成,，整機(jī)采用框架結(jié)...

自動(dòng)滴膠勻膠機(jī)，MSC-200T-D桌上型半自動(dòng)旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)用于對均勻性和一致性要求較高的表面涂布工藝,，將光刻膠溶液自動(dòng)涂覆在硅片,、磷化銦、碳化硅、氮化鎵,、鈮酸鋰...

勻膠機(jī)設(shè)備簡介：桌上型旋轉(zhuǎn)涂布機(jī),，用于對均勻性要求較高的表面涂布工藝，將光刻膠溶液手動(dòng)涂覆在硅片,、磷化銦,、碳化硅、氮化鎵,、鈮酸鋰等基片上形成薄膜,，主要應(yīng)用于12...

MAS4-BE光刻系統(tǒng)一體機(jī)主要由勻膠單元、烤膠單元,、曝光單元,、顯影單元等部分組成，該設(shè)備針對高校研究所實(shí)驗(yàn)室,，特點(diǎn)是占地面積小,，性價(jià)價(jià)比更高。整機(jī)采用框架結(jié)構(gòu)...

針筒式旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)MSC-200T-D桌上型半自動(dòng)旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)用于對均勻性和一致性要求較高的表面涂布工藝,，將光刻膠溶液自動(dòng)涂覆在硅片,、磷化銦、碳化硅,、氮化鎵,、鈮酸鋰...

設(shè)備簡介：桌上型旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)，用于對均勻性要求較高的表面涂布工藝,，將光刻膠溶液手動(dòng)涂覆在硅片,、磷化銦、碳化硅,、氮化鎵,、鈮酸鋰等基片上形成薄膜,，主要應(yīng)用于12寸以內(nèi)...