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森泰克刻蝕機(jī)Etchlab 200 適用于氟基氣體以及氧氣、氬氣等工藝氣體，具有非常高的工藝穩(wěn)定性和重復(fù)性,。升級增加預(yù)真空室后,，可使用氯基氣體,、完成金屬,、化合物...

森泰克感應(yīng)耦合等離子刻蝕機(jī)SI 500干法刻蝕系統(tǒng)廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造,、微納加工,、MEMS制造等領(lǐng)域,。它可以用于刻蝕多種材料，包括但不限于三五族化合物半導(dǎo)體（如...

簡要描述：原子層蝕刻設(shè)備是一種的蝕刻技術(shù),，可精準(zhǔn)的控制其蝕刻深度,。隨著元件尺寸的進(jìn)一步減小，需要進(jìn)一步的使用ALE才能達(dá)到其所需的精度,。

簡要描述：感應(yīng)耦合電漿蝕刻是在標(biāo)準(zhǔn)反應(yīng)離子蝕刻（RIE）的基礎(chǔ)上,，添加電感耦合電漿的。感應(yīng)耦合電漿由磁場圍繞石英晶體管所提供,。產(chǎn)生的高密度電漿被線圈包圍,，將充當(dāng)...

簡要描述：反應(yīng)離子蝕刻設(shè)備機(jī)器中可以非常精確地控制其蝕刻輪廓、蝕刻速率和均勻性,，并具有重復(fù)性,。等向性蝕刻以及非等向性蝕刻都是可能的。

簡要描述：RIE等離子刻蝕機(jī)SI 591：預(yù)真空室和計(jì)算機(jī)控制的等離子體刻蝕工藝條件,，使得SI 591 具有優(yōu)異的工藝再現(xiàn)性和等離子體蝕刻工藝靈活性,。靈活性、模...

簡要描述等離子蝕刻機(jī)Etchlab 200根據(jù)其模塊化設(shè)計(jì),，可升級為更大的真空泵組,，預(yù)真空室和更多的氣路。

簡要描述：等離子刻蝕機(jī)由于離子能量低,，離子能量分布帶寬窄,，因此可以用我們的等離子體刻蝕機(jī)SI 500進(jìn)行低損傷刻蝕和納米結(jié)構(gòu)的刻蝕。

簡要描述：深硅刻蝕機(jī)三螺旋平行板天線(PTSA)等離子源是SENTECH等離子體工藝設(shè)備的屬性,。PTSA源能生成具有高離子密度和低離子能量的均勻等離子體,。它具有...

簡要描述：反應(yīng)離子刻蝕機(jī)我們的等離子蝕刻設(shè)備包括用功能強(qiáng)大的用戶友好軟件與模擬圖形用戶界面，參數(shù)窗口,，工藝窗口,，數(shù)據(jù)記錄和用戶管理,。

簡要描述：英國光柵刻蝕三螺旋平行板天線(PTSA)等離子源是SENTECH等離子體工藝設(shè)備的屬性。PTSA源能生成具有高離子密度和低離子能量的均勻等離子體,。它具...

日本傾斜角RIE等離子蝕刻機(jī)的簡介：日本傾斜角刻蝕代表了直接置片等離子刻蝕機(jī)家族，它結(jié)合了RIE的平行板電極設(shè)計(jì)和直接置片的成本效益設(shè)計(jì)的優(yōu)點(diǎn),。Etchlab2...

簡要描述：進(jìn)口深硅刻蝕：三螺旋平行板天線(PTSA)等離子源是SENTECH等離子體工藝設(shè)備的屬性,。PTSA源能生成具有高離子密度和低離子能量的均勻等離子體。它...

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簡要描述：RIE等離子刻蝕機(jī)該等離子刻蝕機(jī)配備了用戶友好的強(qiáng)大軟件,，具有模擬圖形用戶界面，參數(shù)窗口,，工藝編輯窗口,，數(shù)據(jù)記錄和用戶管理。

簡要描述：ICP-RIE等離子刻蝕機(jī)三螺旋平行板天線(PTSA)等離子源是SENTECH等離子體工藝設(shè)備的屬性,。PTSA源能生成具有高離子密度和低離子能量的均勻...