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森泰克刻蝕機(jī)Etchlab 200 適用于氟基氣體以及氧氣、氬氣等工藝氣體,,具有非常高的工藝穩(wěn)定性和重復(fù)性。升級(jí)增加預(yù)真空室后,,可使用氯基氣體,、完成金屬,、化合物...
森泰克感應(yīng)耦合等離子刻蝕機(jī)SI 500干法刻蝕系統(tǒng)廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造,、微納加工,、MEMS制造等領(lǐng)域,。它可以用于刻蝕多種材料,,包括但不限于三五族化合物半導(dǎo)體(如...
日本傾斜角RIE等離子蝕刻機(jī)的簡(jiǎn)介:日本傾斜角刻蝕代表了直接置片等離子刻蝕機(jī)家族,它結(jié)合了RIE的平行板電極設(shè)計(jì)和直接置片的成本效益設(shè)計(jì)的優(yōu)點(diǎn),。Etchlab2...
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