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日本傾斜角RIE等離子蝕刻機的簡介

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產(chǎn)品型號

品       牌其他品牌

廠商性質(zhì)代理商

所  在  地北京市

更新時間:2024-10-10 09:58:52瀏覽次數(shù):316次

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產(chǎn)地類別 進口 應用領域 環(huán)保,石油,地礦,建材,綜合
日本傾斜角RIE等離子蝕刻機的簡介:日本傾斜角刻蝕代表了直接置片等離子刻蝕機家族,它結(jié)合了RIE的平行板電極設計和直接置片的成本效益設計的優(yōu)點。Etchlab200的特征是簡單和快速的樣品加載,,從零件到直徑為200mm或300mm的晶片直接加載到電極或載片器上,。靈活性,、模塊性和占地面積小是Etchlab200的設計特點,。

日本傾斜角RIE等離子蝕刻機的簡介

低成本效益高:

RIE等離子蝕刻機Etchlab200結(jié)合平行板等離子體源設計與直接置片。

升級擴展性:

根據(jù)其模塊化設計,,等離子蝕刻機Etchlab200可升級為更大的真空泵組,,預真空室和更多的氣路。

SENTECH控制軟件:

該等離子刻蝕機配備了用戶友好的強大軟件,,具有模擬圖形用戶界面,,參數(shù)窗口,工藝編輯窗口,,數(shù)據(jù)記錄和用戶管理,。

日本傾斜角RIE等離子蝕刻機的簡介代表了直接置片等離子刻蝕機家族,它結(jié)合了RIE的平行板電極設計和直接置片的成本效益設計的優(yōu)點。Etchlab200的特征是簡單和快速的樣品加載,,從零件到直徑為200mm或300mm的晶片直接加載到電極或載片器上,。靈活性、模塊性和占地面積小是Etchlab200的設計特點,。位于頂部電極和反應腔體的診斷窗口可以方便地容納SENTECH激光干涉儀或OES和RGA系統(tǒng),。橢偏儀端口可用于SENTECH原位橢偏儀進行原位監(jiān)測。

Etchlab200等離子蝕刻機可以配置成用于刻蝕直接加載的材料,,包括但不限于硅和硅化合物,,化合物半導體,介質(zhì)和金屬,。

Etchlab200通過的SENTECH控制軟件操作,使用遠程現(xiàn)場總線技術和用戶友好的通用用戶界面,。

日本傾斜角刻可能指的是與傾斜角度測量或刻劃相關的日本產(chǎn)品或技術,。然而,由于“傾斜角刻"并非一個廣泛認知的專有名詞或產(chǎn)品名稱,,我將從幾個方面來介紹可能與之相關的日本傾斜角度測量儀器或技術,。 一、日本傾斜角度測量儀器日本在精密儀器制造方面享有盛譽,,其生產(chǎn)的傾斜角度測量儀器具有高精度,、高穩(wěn)定性和多功能性等特點。這些儀器廣泛應用于工業(yè)自動化,、機器人技術,、航空航天、建筑測量等領域,。以下是一些可能相關的日本傾斜角度測量儀器:1. 坂本電機(SEM)傾斜角測定儀:   - 特點:精密數(shù)碼傾斜角測定儀,,具備傳感器與顯示器分離設計,支持1軸,、2軸設定變更,,具有HOLD、オフセット(偏移)功能,,能在振動環(huán)境下進行角度測量,,并具備外部輸出功能。   - 用途:用于各種精密裝置的角度調(diào)整,、勾配可動裝置和機械臂的角度檢測與控制,、汽車調(diào)諧與角度調(diào)整等。   - 技術參數(shù):測量范圍±45.0度(可選±60.0度),,精度±0.1度(±10.0度范圍內(nèi)),,±0.15度(+10.0+45.0度、-10.0-45.0度范圍內(nèi)),,分解能0.01度,,響應時間約200ms以下。2. 大菱(OBISHI)傾斜水平儀:   - 產(chǎn)品系列:大菱公司生產(chǎn)多種型號的傾斜水平儀,,如AJ101,、ST2D-L1AG101等,,這些儀器具有高精度和穩(wěn)定性,,適用于不同的測量需求。   - 特點:部分型號支持數(shù)字顯示,,具有雙軸測量功能,,能夠準確測量水平和垂直方向的角度變化。3. Macome碼控美傾斜角檢測儀:   - 特點:高精度傾斜角檢測儀,,如CM-936-V/H型號,,具備快速響應和穩(wěn)定測量的能力。   - 用途:適用于需要精確測量傾斜角度的場合,,如工業(yè)自動化生產(chǎn)線,、機器人定位等。 二,、日本傾斜角度測量技術除了上述具體的測量







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