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森泰克刻蝕機(jī)Etchlab 200 適用于氟基氣體以及氧氣、氬氣等工藝氣體，具有非常高的工藝穩(wěn)定性和重復(fù)性,。升級增加預(yù)真空室后,，可使用氯基氣體、完成金屬,、化合物...

森泰克感應(yīng)耦合等離子刻蝕機(jī)SI 500干法刻蝕系統(tǒng)廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造,、微納加工、MEMS制造等領(lǐng)域,。它可以用于刻蝕多種材料,，包括但不限于三五族化合物半導(dǎo)體（如...

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簡要描述：等離子沉積設(shè)備低刻蝕速率,，高擊穿電壓,，低應(yīng)力、不損傷襯底以及在低于100#176;C的沉積溫度下的低界面態(tài)密度,，使得所沉積的薄膜具有優(yōu)異的性能,。