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北京瑞科中儀科技有限公司
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感應(yīng)耦合電漿蝕刻

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產(chǎn)品型號(hào)

品       牌其他品牌

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所  在  地北京市

更新時(shí)間：2024-10-10 10:14:36瀏覽次數(shù)：226次

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產(chǎn)地類別 進(jìn)口 應(yīng)用領(lǐng)域 農(nóng)業(yè),地礦,建材,交通,制藥
簡(jiǎn)要描述：感應(yīng)耦合電漿蝕刻是在標(biāo)準(zhǔn)反應(yīng)離子蝕刻（RIE）的基礎(chǔ)上，添加電感耦合電漿的,。感應(yīng)耦合電漿由磁場(chǎng)圍繞石英晶體管所提供,。產(chǎn)生的高密度電漿被線圈包圍,，將充當(dāng)變壓器中的次級(jí)線圈，加速電子和離子,，從而引起碰撞，產(chǎn)生更多的離子和電子,。

感應(yīng)耦合電漿蝕刻（ICP）蝕刻是在標(biāo)準(zhǔn)反應(yīng)離子蝕刻（RIE）的基礎(chǔ)上，添加電感耦合電漿的。感應(yīng)耦合電漿由磁場(chǎng)圍繞石英晶體管所提供,。產(chǎn)生的高密度電漿被線圈包圍，將充當(dāng)變壓器中的次級(jí)線圈,，加速電子和離子,，從而引起碰撞，產(chǎn)生更多的離子和電子,。

高密度的電漿和低真空度增強(qiáng)了具有非等向性的高蝕刻速率?？梢愿鶕?jù)製程要求通過調(diào)節(jié)來自射頻發(fā)生器的直流偏壓來控制離子和電子能量,。

SYSKEY的系統(tǒng)可以精準(zhǔn)的控制製程氣體與電漿製程,，並提供高精準(zhǔn)度的薄膜蝕刻。

感應(yīng)耦合電漿蝕刻

感應(yīng)耦合電漿蝕刻參數(shù)

應(yīng)用領(lǐng)域腔體

  • 矽化合物蝕刻(SiO2,、SiN4)。

  • 光阻蝕刻,。

  • III-V族化合物半導(dǎo)體（GaAsn，InP,，GaN）蝕刻,。

  • 微機(jī)電系統(tǒng),。

  • 金屬與矽蝕刻。

  • 陽(yáng)極電鍍處理鋁腔,。

  • 通過使用水冷系統(tǒng)、加熱器或加熱包來控制腔體溫度,。



配置和優(yōu)點(diǎn)選件

  • 客製化的基板尺寸，直徑可達(dá)12寸晶圓,。

  • 優(yōu)異的薄膜均勻度小於±3％。

  • 具有高均勻度氣體分佈的質(zhì)量流量控制器,。

  • 穩(wěn)定的溫度控制,，將載盤加熱至300°C或冷卻至-20°C。

  • 使用Tornado ICP線圈,，ICP電漿高達(dá)2000W，可增強(qiáng)低溫下的沉積,。

  • 低損壞，高速率處理,，高深寬比。

  • 基板具有氦氣冷卻之功能,，均勻的控制溫度,。

  • 均勻的氣體擴(kuò)散，具有優(yōu)化的氣體分佈,。

  • 靜電吸盤。

  • 蝕刻終點(diǎn)偵測(cè)（OES,，激光）相容性。

  • 可以與傳送腔,、機(jī)械手臂和手套箱整合在一起,。






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