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ECOPIA公司的HMS系列高溫霍爾效應(yīng)測(cè)試儀,,霍爾效應(yīng)系統(tǒng),,霍爾效應(yīng)測(cè)量系統(tǒng)主要由恒電流源,、范德堡法則終端轉(zhuǎn)換器,、低溫(77K)測(cè)量系統(tǒng)及磁場(chǎng)強(qiáng)度輸入系統(tǒng)組成...
霍爾效應(yīng)測(cè)試儀,,霍爾效應(yīng)系統(tǒng)主要用于測(cè)量半導(dǎo)體材料的載流子濃度,、遷移率、電阻率,、霍爾系數(shù),、導(dǎo)電類(lèi)型等重要參數(shù),而這些參數(shù)是了解半導(dǎo)體材料電學(xué)特性必須預(yù)先掌控的,,...
等離子刻蝕ICP基片通過(guò)預(yù)真空室裝入,。其避免與工藝室以及任意殘余刻蝕副產(chǎn)品接觸,從而提高了用戶(hù)安全性,。預(yù)真空室還使得工藝室始終保持在真空下,,從而隔絕外部濕氣,防...
全新設(shè)計(jì)的WB-200型半自動(dòng)細(xì)絲鍵合機(jī)非常適合實(shí)驗(yàn)室研發(fā),,產(chǎn)品原型試產(chǎn),產(chǎn)品評(píng)估,產(chǎn)品返修等在有限預(yù)算下,,同時(shí)必須要保證高質(zhì)量鍵合的用戶(hù),。
薄膜應(yīng)力測(cè)量系統(tǒng):在硅片等基板上附膜時(shí),,由于基板和薄膜的物理定數(shù)有異,,產(chǎn)生應(yīng)力,進(jìn)而引起基板變形,。由涂抹均勻的薄膜引起的變形的表現(xiàn)為基板的翹曲,,而薄膜應(yīng)力測(cè)量裝...
Tergeo等離子清洗機(jī),旋風(fēng)等離子清洗機(jī)操作方法:自動(dòng)配方執(zhí)行,;自動(dòng)作業(yè)順序執(zhí)行,;亦可手動(dòng)操作。工藝控制能力:壓力傳感器,、溫度傳感器,、MFC氣體流量計(jì)、雙等離...
Tergeo等離子清洗機(jī)清洗方式:沉浸式等離子清洗可以高速刻蝕和表面改性,;遠(yuǎn)程等離子體可以輕微的清除表面污染,,如SEM、TEM樣品清洗,;脈沖放電后產(chǎn)生等離子體的...
光學(xué)接觸角測(cè)量?jī)x可根據(jù)客戶(hù)的需求,針對(duì)不同的工作測(cè)試環(huán)境,,提供相應(yīng)的解決方案,,如有技術(shù)請(qǐng)咨詢(xún)德國(guó)韋氏納米系統(tǒng)
液相擴(kuò)散技術(shù)(LDT)提供了各種 基材和表面材料的干燥性能性能增強(qiáng)。這種專(zhuān)有的干燥工藝及其它的系統(tǒng)控制生成超純IPA氣霧劑層,,在靜止的基板移動(dòng)擴(kuò)散去除水分,,不留...
AT-400原子層沉積系統(tǒng)高縱橫比沉積,具有良好的共形性;曝光控制,,用于在 3D 結(jié)構(gòu)上實(shí)現(xiàn)所需的共形性,;預(yù)置有經(jīng)驗(yàn)證過(guò)的 3D 和 2D 沉積的優(yōu)化配方;簡(jiǎn)單...
ActiGraph人體運(yùn)動(dòng)能耗監(jiān)測(cè)儀ActiGraph設(shè)備已經(jīng)被超過(guò)60個(gè)國(guó)家的幾百所大學(xué)和研究機(jī)構(gòu)所采用,,主要的實(shí)驗(yàn)室包括U.S. National Inst...
ActiGraph人體運(yùn)動(dòng)能耗監(jiān)測(cè)儀ActiGraph設(shè)備已經(jīng)被超過(guò)60個(gè)國(guó)家的幾百所大學(xué)和研究機(jī)構(gòu)所采用,,主要的實(shí)驗(yàn)室包括U.S. National Inst...
杜邦蝕刻殘留物去除液
杜邦™plasmasolv®ekc265™蝕刻后殘留物去除
聲表面波SAW功率發(fā)生器Fxilie簡(jiǎn)化和加速聲流控實(shí)驗(yàn)的一款高精度,頻率的控制器,。
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