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德國韋氏納米系統(tǒng)(香港)有限公司
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原子層沉積系統(tǒng)

參   考   價: 450000

訂  貨  量: ≥1  件

具體成交價以合同協(xié)議為準

產(chǎn)品型號AT-410

品       牌其他品牌

廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

所  在  地國外

更新時間:2024-06-17 16:34:26瀏覽次數(shù):1961次

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AT-400原子層沉積系統(tǒng)高縱橫比沉積,具有良好的共形性;曝光控制,,用于在 3D 結(jié)構(gòu)上實現(xiàn)所需的共形性,;預(yù)置有經(jīng)驗證過的 3D 和 2D 沉積的優(yōu)化配方,;簡單便捷的系統(tǒng)維護及安全聯(lián)鎖,;目前市面上占地小,,可兼容各類潔凈室要求的系統(tǒng),;

AT-400原子層沉積系統(tǒng)技術(shù)參數(shù):

基片尺寸:4英寸,;

加熱溫度:25~350

溫度均勻性:±1,;

前體溫度范圍:從室溫至150,,±2;可選擇加熱套,;

前驅(qū)體數(shù):一次同時可處理多達 5  ALD 前體源,;

PLC 控制系統(tǒng):7英寸16 位彩色觸摸屏控制;

模擬壓力控制器:用于快速壓力檢測和脈沖監(jiān)測

樣品上載:將樣品夾具從邊上拉出即可,;

壓力控制裝置:壓力控制范圍從0.1~1.5Torr

兩個氧化劑/還原劑源,,如水,,氧氣或氨氣;

在樣品上沒有大氣污染物,,因為在沉積區(qū)的附近或上游處無 Elestamor O 型圈出現(xiàn);

氧化鋁催化劑處理能力:6-10 /分鐘或高達 1.2 納米分鐘

高縱橫比沉積,,具有良好的共形性

曝光控制,用于在 3D 結(jié)構(gòu)上實現(xiàn)所需的共形性,;

預(yù)置有經(jīng)驗證過的 3D  2D 沉積的優(yōu)化配方,;

簡單便捷的系統(tǒng)維護及安全聯(lián)鎖;

目前市面上占地小,,可兼容各類潔凈室要求的系統(tǒng),;

可以為非標準樣品而訂制的夾具,如 SEM / TEM 短截線

 

原子層沉積ALD的應(yīng)用包括:

1) High-K介電材料 (Al2O3, HfO2, ZrO2, PrAlO, Ta2O5, La2O3),;

2)導(dǎo)電門電極 (Ir, Pt, Ru, TiN),;

3)金屬互聯(lián)結(jié)構(gòu) (Cu, WN, TaN,Ru, Ir)

4)催化材料 (Pt, Ir, Co, TiO2, V2O5),;

5)納米結(jié)構(gòu) (All ALD Material),;

6)生物醫(yī)學(xué)涂層 (TiN, ZrN, TiAlN, AlTiN)

7) ALD金屬 (Ru, Pd, Ir, Pt, Rh, Co, Cu, Fe, Ni),;

8)壓電層 (ZnO, AlN, ZnS),;

9)透明電學(xué)導(dǎo)體 (ZnO:Al, ITO);

10)紫外阻擋層 (ZnO, TiO2);

11) OLED鈍化層 (Al2O3);

12)光子晶體 (ZnO, ZnS:Mn, TiO2, Ta3N5);

13)防反射濾光片 (Al2O3, ZnS, SnO2, Ta2O5)

14)電致發(fā)光器件 (SrS:Cu, ZnS:Mn, ZnS:Tb, SrS:Ce);

15)工藝層如蝕刻柵欄,、離子擴散柵欄等 (Al2O3, ZrO2);

16)光學(xué)應(yīng)用如太陽能電池,、激光器、光學(xué)涂層,、納米光子等 (AlTiO, SnO2, ZnO);

17)傳感器 (SnO2, Ta2O5);

18)磨損潤滑劑,、腐蝕阻擋層 (Al2O3, ZrO2, WS2)

沉積材料.jpg

AT-410 原子層沉積信息由German First-Nano System 德國韋氏納米為您提供,,如您想了解更多關(guān)于AT-410 原子層沉積報價,、型號、參數(shù)等信息,,歡迎留言咨詢,。

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