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德國(guó)韋氏納米系統(tǒng)(香港)有限公司
中級(jí)會(huì)員 | 第9年

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薄膜應(yīng)力測(cè)量系統(tǒng)

參  考  價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號(hào)Toho FLX-2320-S

品       牌其他品牌

廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

所  在  地國(guó)外

更新時(shí)間:2025-05-09 17:03:07瀏覽次數(shù):9620次

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應(yīng)用領(lǐng)域 電子/電池
薄膜應(yīng)力測(cè)量系統(tǒng):在硅片等基板上附膜時(shí),由于基板和薄膜的物理定數(shù)有異,,產(chǎn)生應(yīng)力,,進(jìn)而引起基板變形,。由涂抹均勻的薄膜引起的變形的表現(xiàn)為基板的翹曲,,而薄膜應(yīng)力測(cè)量裝置FLX系列可從這個(gè)翹曲(曲率半徑)的變化量測(cè)量其應(yīng)力,。

薄膜應(yīng)力測(cè)量系統(tǒng)

在硅片等基板上附膜時(shí),,由于基板和薄膜的物理定數(shù)有異,產(chǎn)生應(yīng)力,,進(jìn)而引起基板變形,。由涂抹均勻的薄膜引起的變形的表現(xiàn)為基板的翹曲,而薄膜應(yīng)力測(cè)量裝置FLX系列可從這個(gè)翹曲(曲率半徑)的變化量測(cè)量其應(yīng)力,。

技術(shù)參數(shù):

Toho FLX-2320-S薄膜應(yīng)力測(cè)量系統(tǒng)精確測(cè)量多種襯底材料,、金屬和電介質(zhì)等薄膜應(yīng)力。



主要特點(diǎn):

      ◆雙光源掃描(可見光激光源及不可見光激光源),,系統(tǒng)可自動(dòng)選擇*匹配之激光源,;
      ◆系統(tǒng)內(nèi)置升溫,、降溫模擬系統(tǒng),便于量測(cè)不同溫度下薄膜的應(yīng)力,,溫度調(diào)節(jié)范圍為-65℃至500℃,;
      ◆自帶常用材料的彈性系數(shù)數(shù)據(jù)庫(kù),,并可根據(jù)客戶需要添加新型材料相關(guān)信息至數(shù)據(jù)庫(kù),,便于新材料研究;
      ◆形象的軟件分析功能,,用于不同測(cè)量記錄之間的比較,,且測(cè)量記錄可導(dǎo)出成Excel等格式的文檔;
      ◆具有薄膜應(yīng)力3D繪圖功能,。


用戶界面:

版WINDOWS OS易懂操作界面,。

另搭載豐富的基板材料數(shù)據(jù)庫(kù)。自動(dòng)保存測(cè)量數(shù)據(jù)等方便性能,。

每個(gè)用戶可分別設(shè)定訪問權(quán)限,。使用自帶軟件實(shí)現(xiàn)簡(jiǎn)單卻性能高,簡(jiǎn)單測(cè)量,。

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               3D Mapping                                      Process Program 標(biāo)準(zhǔn)測(cè)量 Recipe

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           Wafer形狀2D顯示                                              訪問級(jí)別編輯界面


                                     數(shù)據(jù)庫(kù)2軸彈性系數(shù)

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   溫度測(cè)量 Plot                                                           趨勢(shì)圖


 

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