化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>半導(dǎo)體行業(yè)專(zhuān)用儀器>薄膜生長(zhǎng)設(shè)備>化學(xué)氣相沉積設(shè)備>NPE-4000 PECVD/等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
NPE-4000 PECVD/等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
- 公司名稱(chēng) 那諾-馬斯特中國(guó)有限公司
- 品牌
- 型號(hào) NPE-4000
- 產(chǎn)地 PECVD
- 廠(chǎng)商性質(zhì) 生產(chǎn)廠(chǎng)家
- 更新時(shí)間 2018/5/8 17:15:57
- 訪(fǎng)問(wèn)次數(shù) 459
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PECVD，PA-MOCVD,，蒸發(fā)系統(tǒng),，離子束,，ALD，等離子源,，濺射,，刻蝕，熱真空,，兆聲清洗機(jī)，雙系統(tǒng)
PECVD/等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
NANO-MASTER(那諾-馬斯特) PECVD系統(tǒng)能夠沉積高質(zhì)量的SiO2, Si3N4, 或DLC薄膜到zui大可達(dá)12” 直徑的基片上.該系統(tǒng)采用淋浴頭電極或中空陰極射頻等離子源來(lái)產(chǎn)生等離子,，具有分形氣流分布的優(yōu)勢(shì).樣品臺(tái)可以通過(guò)RF或脈沖DC產(chǎn)生偏壓。并可以支持加熱和循環(huán)冷卻水的冷卻.使用250l/sec渦輪分子泵及3.5 cfm的機(jī)械泵，腔體可以達(dá)到低至10-7 torr的真空,。標(biāo)準(zhǔn)配置包含1路惰性氣體,、3路活性氣體管路和4個(gè)MFC.帶有*氣體分布系統(tǒng)的平面中空陰極等離子源使得系統(tǒng)可以滿(mǎn)足廣大范圍的要求,，無(wú)論是等離子強(qiáng)度、均勻度,，還是要分別激活某些活性組份，這樣系統(tǒng)可以覆蓋zui廣的可能性來(lái)獲得各種沉積參數(shù),。
產(chǎn)品特點(diǎn)：
- 不銹鋼或鋁制腔體
- 極限真空可達(dá)10-7Torr
- RF淋浴頭,，HCD或微波等離子源可選
- 高達(dá)12”(300mm)直徑的樣品臺(tái)
- RF射頻偏壓樣品臺(tái)
- 水冷樣品臺(tái)
- 可加熱到800 °C樣品臺(tái)
- 加熱的氣體管路
- 加熱的液體傳送單元
- 抗腐蝕的渦輪分子泵組
- 1路載體氣體以及3路反應(yīng)氣體,，帶MFC
- zui大可支持8路MFC,，帶排放箱及氣體閥組
- 預(yù)真空鎖及自動(dòng)上下載腔門(mén)
- 氣動(dòng)控制閥
- 基于LabView軟件的PC計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制
- 菜單驅(qū)動(dòng)，4級(jí)密碼訪(fǎng)問(wèn)保護(hù)
- 完整的安全聯(lián)鎖
產(chǎn)品應(yīng)用：
- 等離子誘導(dǎo)表面改性
- 等離子清洗
- 等離子聚合
- SiO2, Si3N4, a-Si, DLC以及其它薄膜
- CNT選擇性生長(zhǎng)
設(shè)備型號(hào)：
- NPE-4000：基于PC計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制的獨(dú)立系統(tǒng)
- NPE-3500：基于PC計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制的緊湊型獨(dú)立系統(tǒng)
- NPE-3000：基于PC計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制的臺(tái)式系統(tǒng)
- NRP-4000：RIE/PECVD雙系統(tǒng)
- NSP-4000：濺射/PECVD雙系統(tǒng)
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