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NMC-4000 PAMOCVD/等離子輔助MOCVD

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 那諾-馬斯特中國(guó)有限公司
  • 品牌
  • 型號(hào) NMC-4000
  • 產(chǎn)地 美國(guó)
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間 2018/5/20 17:01:41
  • 訪問(wèn)次數(shù) 394

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NANO-MASTER(那諾-馬斯特)作為性的專業(yè)薄膜工藝系統(tǒng)的供應(yīng)商,,提供的產(chǎn)品涵蓋了沉積、刻蝕、生長(zhǎng),、表面處理,、清洗、空間仿真儀器測(cè)試等類別,。

主要的設(shè)備包含有:

E-Beam電子束蒸發(fā)系統(tǒng),,Thermal熱蒸發(fā)系統(tǒng);
PECVD等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng),;
PLD脈沖激光沉積系統(tǒng),,DLC類金剛石沉積系統(tǒng),;
Sputering磁控濺射(DC&RF)系統(tǒng),;
Ion Beam離子束濺射/清洗/刻蝕/研磨系統(tǒng),;
RIE反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng),,DRIE深硅刻蝕系統(tǒng),;
ICP電感耦合等離子系統(tǒng);
Plasma等離子清洗/改性/去膠系統(tǒng),;
ALD原子層沉積系統(tǒng),,PA-MOCVD系統(tǒng);
CNT生長(zhǎng)系統(tǒng),,石墨烯生長(zhǎng)系統(tǒng),;
PIII等離子注入系統(tǒng),,RTP真空退火;
Megasonic兆聲清洗/刻蝕,;
Device Testing Systems設(shè)備測(cè)試(空間仿真),;
Heated Platens等離子樣品臺(tái)等。

NANO-MASTER(那諾-馬斯特)的設(shè)備廣泛應(yīng)用于:LED領(lǐng)域,,MEMS領(lǐng)域,,納米技術(shù)領(lǐng)域,,光電子學(xué),光伏領(lǐng)域,,研究開(kāi)發(fā),、半導(dǎo)體領(lǐng)域,空間仿真學(xué),新興技術(shù)等,。

PECVD,,PA-MOCVD,蒸發(fā)系統(tǒng),,離子束,ALD,,等離子源,,濺射,刻蝕,,熱真空,,兆聲清洗機(jī),雙系統(tǒng)

PAMOCVD/等離子輔助金屬有機(jī)物化學(xué)氣相沉積

NANO-MASTER(那諾-馬斯特)針對(duì)InGaN及AlGaN沉積工藝所研發(fā)的臺(tái)式等離子輔助金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(PA-MOCVD),該系統(tǒng)具有加熱的氣體管路,、5個(gè)鼓泡裝置(各帶獨(dú)立的冷卻槽),、950度樣品臺(tái)三個(gè)氣體環(huán),、PC全自動(dòng)控制,、淋浴式氣體分布的RF射頻等離子源以及工藝終端的N2沖洗,、 250l/sec渦輪分子泵及無(wú)油真空泵(5 x 10-7Torr極限真空),,*的安全互鎖,。

目前,NANO-MASTER(那諾-馬斯特)的這項(xiàng)技術(shù)延伸到5個(gè)4"晶圓的立柜式獨(dú)立批處理系統(tǒng),,該系統(tǒng)可以集成到集群配置中以滿足高產(chǎn)量的要求,。

型號(hào)NMC-3000的PAMOCVD系統(tǒng)

  • 應(yīng)用:綠光LED(GaN, InGaN, AlGaN, ...)
  • 臺(tái)式系統(tǒng)
  • 5個(gè)帶獨(dú)立冷卻槽的起泡器
  • 加熱的氣體管路
  • 950 °C樣品臺(tái),2”晶圓片
  • 3個(gè)氣體環(huán)
  • RF等離子源,,帶淋浴頭氣體分布
  • 工藝完成后N2自動(dòng)沖洗
  • 極限真空5x10-7Torr
  • 250 l/s的渦輪分子泵串接無(wú)油干泵
  • 通過(guò)LabView軟件實(shí)現(xiàn)PC計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制
  • 菜單驅(qū)動(dòng),,4級(jí)密碼訪問(wèn)控制
  • 完整的安全聯(lián)鎖

型號(hào)NMC-4000的PAMOCVD系統(tǒng)

  • 獨(dú)立系統(tǒng)
  • 14”不銹鋼立方體腔體
  • 1次在8”樣品臺(tái)上處理1個(gè)6”晶圓片或在12”樣品臺(tái)上處理5片4”片子
  • 加熱的氣體管路
  • RF等離子源,自動(dòng)調(diào)諧
  • 淋浴頭氣體分布
  • 1100°C的旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)
  • N2沖洗
  • 手動(dòng)或自動(dòng)的晶圓片上下載
  • 可以兼容到集群配置中


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