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NLD-3500 ALD/原子層沉積系統(tǒng)
- 公司名稱 那諾-馬斯特中國(guó)有限公司
- 品牌
- 型號(hào) NLD-3500
- 產(chǎn)地 美國(guó)
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2018/5/9 8:34:07
- 訪問次數(shù) 324
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PECVD,PA-MOCVD,,蒸發(fā)系統(tǒng),,離子束,ALD,,等離子源,,濺射,刻蝕,,熱真空,兆聲清洗機(jī),,雙系統(tǒng)
原子層沉積系統(tǒng)
NANO-MASTER(那諾-馬斯特)NLD-4000是一款獨(dú)立的PC計(jì)算機(jī)控制的ALD原子層沉積系統(tǒng),,帶Labview軟件,具備四級(jí)密碼控制的用戶*保護(hù)功能,。系統(tǒng)為全自動(dòng)的安全互鎖設(shè)計(jì),,并提供了強(qiáng)大的靈活性,可以用于沉積多種薄膜(如:AL2O3, AlN, TiN, ZrO2, LaO2, HfO2,等等),。應(yīng)用領(lǐng)域包含半導(dǎo)體,、光伏、MEMS等,。NLD-4000系統(tǒng)提供12”的鋁質(zhì)反應(yīng)腔體,,帶有加熱腔壁和氣動(dòng)升降頂蓋,非常方便腔體的訪問和清潔,。該系統(tǒng)擁有一個(gè)載氣艙包含多達(dá)7個(gè)50ml的加熱汽缸,,用于前驅(qū)體以及反應(yīng)物,同時(shí)帶有N2或者Ar作為運(yùn)載氣體的快脈沖加熱傳輸閥,。
NANO-MASTER(那諾-馬斯特)NLD-4000系統(tǒng)的選配項(xiàng)包含自動(dòng)L/UL上下載(用于6”基片),,ICP離子源(用于等離子增強(qiáng)的PEALD),臭氧發(fā)生器,,等等,。
NLD-4000在6”晶圓片上的均勻性數(shù)據(jù)
周期:100個(gè)周期(TMA + H2O)
均勻度:0.36%
溫度:200°C
折射率:1.68
周期:300個(gè)周期(TMA + H2O)
均勻度:0.27%
溫度:200°C
折射率:1.67