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化學(xué)氣相沉積CVD技術(shù)簡介

來源:北京瑞科中儀科技有限公司   2023年10月24日 10:03  

化學(xué)氣相沉積(CVD)技術(shù)是用來制備高純,、高性能固體薄膜的主要技術(shù),。在典型的CVD工藝過程中,,把一種或多種蒸汽源原子或分子引入腔室中,在外部能量作用下發(fā)生化學(xué)反應(yīng)并在襯底表面形成需要的薄膜,。由于CVD技術(shù)具有成膜范圍廣、重現(xiàn)性好等優(yōu)點,被廣泛用于多種不同形態(tài)的成膜,。北方華創(chuàng)微電子憑借十余年的微電子領(lǐng)域精密工藝設(shè)備開發(fā)經(jīng)驗,致力于為集成電路,、半導(dǎo)體照明,、微機電系統(tǒng)、功率半導(dǎo)體,、化合物半導(dǎo)體,、新能源光伏等領(lǐng)域提供各種類型的CVD設(shè)備,滿足客戶多種制造工藝需求,。北方華創(chuàng)微電子開發(fā)的臥式PECVD 已成功進入海外市場,,為多家*光伏制造廠提供解決方案。而硅外延設(shè)備在感應(yīng)加熱高溫控制技術(shù),、氣流場,、溫度場模擬仿真技術(shù)等方面取得了重大的突破,達成了優(yōu)秀的外延工藝結(jié)果,,獲得多家國內(nèi)主流生產(chǎn)線批量采購,。面向LED領(lǐng)域介質(zhì)膜沉積的PECVD設(shè)備,憑借優(yōu)秀的工藝性能和產(chǎn)能優(yōu)勢,,已成為LED客戶擴產(chǎn)優(yōu)選設(shè)備,。

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