C2GR16-立式氣相沉積爐
- 公司名稱 上海皓越真空設(shè)備有限公司
- 品牌 HAOYUE/皓越
- 型號(hào)
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2025/1/17 14:06:42
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一、設(shè)備基本原理與特點(diǎn)
1.基本原理:
熱誘導(dǎo)化學(xué)氣相沉積(英語(yǔ):chemical vapor deposition ,CVD)是用于各種電介質(zhì),半導(dǎo)體和金屬材料的保護(hù)涂層的沉積的有力方式,,無(wú)論是單晶,多晶,,無(wú)定形或外延狀態(tài)上或大或小的形態(tài),。典型的涂層材料包括熱解碳,碳化硅,,氮化硼,。通過(guò)使用合成前體,涂層非常純凈并目滿足半導(dǎo)體工業(yè)的典型要求,,根據(jù)工藝參數(shù),,可以有多種層厚度,,從單個(gè)或幾個(gè)原子層到厚度從10納米到數(shù)百微米的固體保護(hù)層或功能層,以及厚度達(dá)100微米的單片部件,,甚至高達(dá)數(shù)毫米,。
2.設(shè)備特點(diǎn):
(1)采用臥式、側(cè)開(kāi)門結(jié)構(gòu),,裝,、卸料精度高,操作方便,;
(2)采用先進(jìn)的控制技術(shù),,能精密控制MTS的流量和壓力,爐膛內(nèi)沉積氣流穩(wěn)定,,壓力波動(dòng)范圍?。?br/>(3)溫度均勻性好,,平均溫度均勻性為±5℃,;
(4)采用多通道沉積氣路,流場(chǎng)均勻,,無(wú)沉積死角,,沉積效果好;
(5)全封閉沉積室,,密封效果好,,抗污染能力強(qiáng);
(6)安全性能好,,采用HMI+PLC+PID程序控制,,安全可靠;
(7)對(duì)沉積產(chǎn)生的高腐蝕性尾氣,、易燃易爆氣體,、固體粉塵及低熔點(diǎn)粘性產(chǎn)物能進(jìn)行有效處理;
(8)多級(jí)高效尾氣處理系統(tǒng),,環(huán)境友好,,能高效收集焦油及副產(chǎn)物,易清理,;
(9)采用設(shè)計(jì)防腐蝕真空機(jī)組,,持續(xù)工作時(shí)間長(zhǎng),維修率極低,。
二,、C2GR16-立式氣相沉積爐(主要技術(shù)參數(shù):
1 | 編號(hào) | C2GR16 |
2 | 產(chǎn)品型號(hào) | VHCgr-20/20/30-1600 |
3 | 最高設(shè)計(jì)溫度(℃) | 1600 |
4 | 加熱元件 | 等靜壓石墨 |
5 | 加熱功率(kW) | 45 |
6 | 冷態(tài)極限真空度(Pa) | 6.7x10-3Pa(空爐、冷態(tài),、經(jīng)凈化) |
7 | 測(cè)溫元件 | 鎢錸熱電偶 |
8 | 升溫速率 | 1~20℃/min |
9 | 溫度均勻性 | ±5℃(5點(diǎn)測(cè)溫,,恒溫區(qū)1000℃保溫1h后檢測(cè)) |
10 | 爐膛尺寸(mm) | 200x200x300(WxHxD) |
11 | 可通入氣氛 | 1路CH3SiCI3,、1路氨氣、1路氫氣,、1路氮?dú)?/td> |
12 | 氣氛流量計(jì) | 4路質(zhì)量流量計(jì) |
13 | 設(shè)備外形尺寸(mm) | 1425x1550x1850mm(LxWxH) |