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簡要描述：PECVD等離子沉積設(shè)備DEPOLAB 200根據(jù)其模塊化設(shè)計，PECVD Depolab 200可升級為更大的真空泵組,，低頻射頻源和更多的氣路,。

簡要描述：帶預(yù)真空室的化學(xué)氣相沉積設(shè)備SI 500 PPD的特色是預(yù)真空室和干泵裝置，用于無油,、高產(chǎn)量和潔凈的化學(xué)氣相沉積過程,。

簡要描述：等離子沉積設(shè)備SI 500 D低刻蝕速率，高擊穿電壓,，低應(yīng)力,、不損傷襯底以及在低于100#176;C的沉積溫度下的低界面態(tài)密度，使得所沉積的薄膜具有優(yōu)...

簡要描述：化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PECVD沉積設(shè)備SI 500 PPD便于在從室溫到350℃的溫度范圍內(nèi)進(jìn)行SiO2,、SiNx,、SiOxNy和a-Si的標(biāo)準(zhǔn)的化學(xué)氣相...

簡要描述：三到六個端口傳送腔室可用于集成ICP等離子刻蝕機(jī)、RIE刻蝕機(jī),、原子層沉積系統(tǒng),、PECVD和ICPECVD沉積設(shè)備，以滿足研發(fā)的要求,。樣品可以通過預(yù)真...

簡要描述：SENTECH二維材料刻蝕沉積能夠在低溫100C下高均勻度和高保形性地覆蓋敏感襯底和膜層，在樣品表面提供高通量的反應(yīng)性氣體,，而不受紫外線輻射或離子轟擊...

簡要描述：原子層沉積設(shè)備：真遠(yuǎn)程等離子體源能夠在低溫100C下高均勻度和高保形性地覆蓋敏感襯底和膜層,，在樣品表面提供高通量的反應(yīng)性氣體,，而不受紫外線輻射或離子轟...

簡要描述：PECVD等離子沉積設(shè)備Depolab 200是SENTECH基本的等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)設(shè)備，它結(jié)合了用于均勻薄膜沉積的平行板電極設(shè)...

簡要描述：帶預(yù)真空室的化學(xué)氣相沉積設(shè)備PECVD沉積設(shè)備SI 500 PPD便于在從室溫到350℃的溫度范圍內(nèi)進(jìn)行SiO2,、SiNx,、SiOxNy和a-Si的標(biāo)...

簡要描述：等離子沉積設(shè)備低刻蝕速率，高擊穿電壓,，低應(yīng)力,、不損傷襯底以及在低于100#176;C的沉積溫度下的低界面態(tài)密度，使得所沉積的薄膜具有優(yōu)異的性能,。

簡要描述：X射線探傷機(jī)2公司制造X射線工業(yè)設(shè)備用于控制產(chǎn)品質(zhì)量,，如應(yīng)用于汽車、航空和食品等部門,。此外,，公司制造的X射線設(shè)備也應(yīng)用于醫(yī)療和安全部門。每個產(chǎn)品在國內(nèi)...

簡要描述：X射線探傷機(jī)X 射線工業(yè)設(shè)備用于控制產(chǎn)品質(zhì)量,，如應(yīng)用于汽車,、航空航天、管件,、研究所和食品等不同行業(yè),。此外，制造的 X 射線設(shè)備也應(yīng)用于醫(yī)療和安檢部門,。...

簡要描述：奧林巴斯生物顯微鏡三目倒置式IX83：奧林巴斯IX83是一臺全電動的倒置生物顯微鏡,，智能型的全電動顯微鏡兼具大視野(FN22，左側(cè)光口)和IX3-ZD...

簡要描述：尼康基礎(chǔ)偏光顯微鏡LV100 POL優(yōu)異的光學(xué)性能,、用途廣泛尼康顯微鏡以高品質(zhì)獲得了市場的認(rèn)可,，偏光檢驗(yàn)可用于各種專業(yè)。新開發(fā)的高亮度作為該機(jī)種鹵素光...

簡要描述：尼康超高分辨率顯微鏡N-SIM以傳統(tǒng)光學(xué)顯微技術(shù)所從未達(dá)到的分辨率呈現(xiàn)出極為清晰的細(xì)胞結(jié)構(gòu)與分子活動.尼康新推出的N-SIM顯微鏡系統(tǒng)可獲得傳統(tǒng)光學(xué)顯...

激光掃描圖形檢測系統(tǒng)簡要描述：激光掃描系統(tǒng)該儀器被設(shè)計用于工藝和材料的質(zhì)量監(jiān)控,，例如單晶或多晶硅,。多晶硅磚切割標(biāo)準(zhǔn)的自動輸出。能夠根據(jù)爐子的輸出質(zhì)量進(jìn)行單獨(dú)的爐...

激光捕獲顯微切割系統(tǒng) Accuva Cellect 是一種利用激光技術(shù)進(jìn)行細(xì)胞和組織切割的設(shè)備,。該系統(tǒng)結(jié)合了紅外（IR）激光捕獲和紫外（UV）激光切割兩種技術(shù),，...