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那諾中國有限公司
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3 2024－12

Kore的TOF-SIMS SurfaceSeer亮相Innovia Films

飛行時間二次離子質(zhì)譜法（TOF-SIMS）是一種高度靈敏的表面分析技術(shù),，可揭示樣品頂部幾個原子層的質(zhì)譜數(shù)據(jù)。Kore很榮幸成為InnoviaFilms的TOF-SIMS供應(yīng)商,，InnoviaFilms...

24 2020－7

直擊渭南師范學(xué)院原子層沉積安裝現(xiàn)場

上周NMC專業(yè)的售后服務(wù)工程師至渭南師范學(xué)院完成了原子層沉積系統(tǒng)NLD-3000的安裝調(diào)試,，并順利驗收！NLD-3000是一款PC全自動工藝控制的臺式ALD系統(tǒng),，包含完整的安全聯(lián)鎖功能,，能夠沉積氧化物...

26 2019－8

中標喜訊｜那諾中國投標競得西安電子科技大學(xué)PECVD采購招標項目

2019年7月16日，我司成功中標西安電子科技大學(xué)等離子增強化學(xué)氣相沉積設(shè)備采購招標項目,。本項目選用NANO-MASTER設(shè)計生產(chǎn)的NPE-4000系統(tǒng),，該系統(tǒng)為緊湊型設(shè)計PC控制的獨立式下游式PEC...

26 2019－8

中標喜訊｜那諾中國投標競得上海交通大學(xué)掩模板兆聲清洗機采購項目

近日，那諾中國在“上海交通大學(xué)電子信息與電氣工程學(xué)院掩模板兆聲清洗機采購項目”的競標中,，順利中標,，這無疑是對NANO-MASTER綜合實力的又一次肯定！本套設(shè)備是NANO-MASTER,INC.開發(fā)的...

13 2017－10

ALD系統(tǒng)應(yīng)用范圍再次升級

隨著NANO-MASTER*技術(shù)的ICP源的深入應(yīng)用,，對于大面積的基片提供均勻高品質(zhì)的薄膜生長得以實現(xiàn),。到目前為止，NANO-MASTER的ALD系統(tǒng)可以支持在任意尺寸的襯底上的擴展,，這給顯示和照明等...

12 2017－9

北京理工大學(xué)RIE-PECVD順利安裝驗收

今年7月,，北京理工的RIE-PECVD順利安裝驗收。這套設(shè)備是Nano-Master極富特色的雙系統(tǒng)設(shè)備,，一套設(shè)備中實現(xiàn)反應(yīng)離子刻蝕工藝,，同時具備等離子增強化學(xué)氣相沉積的工藝能力，既避免客戶擔心的交叉...

17 2017－8

深圳先進院磁控濺射順利安裝實施

八月初,，深圳先進院磁控濺射NSC-3500安裝條件已具備,，NANO-MASTER的工程師們?yōu)樯钲谙冗M院安裝調(diào)試實施。本套NSC-3500是帶機械手臂的全自動控制型號,，標準配置帶有水冷或者加熱(zui高...

3 2016－8

微波等離子清洗機技術(shù)的Z大特點介紹

微波等離子清洗機的機理,，主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達到去除物體表面污漬的目的。就反應(yīng)機理來看,，等離子體清洗通常包括以下過程：無機氣體被激發(fā)為等離子態(tài),；氣相物質(zhì)被吸附在固體表面；被吸附基...

17 2016－6

晶圓清洗機主要結(jié)構(gòu)特點及工藝流程

一．產(chǎn)品結(jié)構(gòu)晶圓清洗機主要結(jié)構(gòu)特點：1,、采用三套獨立的電腦控制機械臂自動化作業(yè)2,、采用第三代技術(shù),，全面完善的防酸防腐措施，保護到機器每一個角落3,、全自動補液技術(shù)4,、*的硅片干燥前處理技術(shù)，保證硅片干燥...

15 2016－6

微波等離子清洗機在封裝工藝中的應(yīng)用及產(chǎn)品特點

微波等離子清洗機(plasmacleaner)也叫等離子清潔機,，或者等離子表面處理儀,，是一種全新的高科技技術(shù)，利用等離子體來達到常規(guī)清洗方法無法達到的效果,。等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài),，也叫做物質(zhì)的第四態(tài)...

15 2016－3

單片晶圓清洗機的詳細資料概述

單片晶圓清洗機是一款帶有小占地面積的理想設(shè)備，并且很容易安裝在空間有限的超凈間中,。該系列設(shè)備都具有出眾的清洗能力,，并可用于非常廣泛的基片。單片晶圓清洗機提供了可控的化學(xué)試劑滴膠能力,，這使得顆粒從基片表...

12 2016－1

反應(yīng)離子刻蝕機檢驗操作及判斷

反應(yīng)離子刻蝕機是一款獨立式RIE反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng),，配套有淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品。具有不銹鋼柜子以及13"的上蓋式圓柱形鋁腔,，便于晶圓片裝載.腔體有兩個端口：一個帶有2"的視窗,另一個空置用...

17 2015－12

帶RIE等離子刻蝕機處理模式介紹

帶RIE等離子刻蝕機是干法刻蝕中zui常見的一種形式,，其原理是暴露在電子區(qū)域的氣體形成等離子體，由此產(chǎn)生的電離氣體和釋放高能電子組成的氣體,，從而形成了等離子或離子,，電離氣體原子通過電場加速時，會釋放足...

23 2015－11

光學(xué)元件鍍膜機使用步驟

光學(xué)元件鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜,，具體包括很多種類,，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射,，MBE分子束外延,，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種,。光學(xué)元件鍍膜機使用步驟電...

9 2015－11

鍍膜機設(shè)備說明書

鍍膜機設(shè)備說明書和設(shè)備上儀表盤指針顯示及各旋鈕下的標注說明,。①檢查真空鍍膜機各操作控制開關(guān)是否在"關(guān)"位置。②打開總電源開關(guān),，設(shè)備送電,。③低壓閥拉出。開充氣閥,，聽不到氣流聲后，啟動升鐘罩閥,，鐘罩升起,。...

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