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晶圓接觸角測(cè)量?jī)x
SURFTENS HL 200 晶圓接觸角測(cè)量?jī)x專為半導(dǎo)體工業(yè)及科研領(lǐng)域開(kāi)發(fā),，特別適用于硅片表面處理過(guò)程中的工藝控制。它是分析硅片接觸角與潤(rùn)濕性的理想工具,，能夠...

型號(hào)： SURFTENS ... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/5/29 21:38:53 對(duì)比

接觸角測(cè)量?jī)x接觸角測(cè)試儀接觸角測(cè)定儀接觸角儀光學(xué)接觸角測(cè)量?jī)x
薄膜應(yīng)力測(cè)試儀
FLATSCAN 薄膜應(yīng)力測(cè)試儀用于對(duì)各種反射面（如硅片,、鏡面、X 射線鏡（Goebel-mirrors）,、金屬表面或拋光聚合物）的平整度,、表面曲率、平均半徑和...

型號(hào)： FLATSCAN 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/5/22 11:12:53 對(duì)比

應(yīng)力測(cè)試儀薄膜應(yīng)力測(cè)試儀應(yīng)力檢測(cè)儀應(yīng)力儀應(yīng)力測(cè)試設(shè)備
高精度金剛石晶圓劃片機(jī)
高精度金剛石晶圓劃片機(jī)MR 200 系統(tǒng)軟件的設(shè)置和硬件的配置能夠?qū)崿F(xiàn)高精度的劃線,，從而實(shí)現(xiàn)對(duì)結(jié)構(gòu)化硅片的精準(zhǔn)切割,。MR 200 是一款非常有力的工具,，尤其在半...

型號(hào)：德國(guó) OEG MR... 所在地：德國(guó)參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/5/22 11:09:56 對(duì)比

劃片機(jī)晶圓劃片機(jī)半導(dǎo)體劃片機(jī)精密劃片機(jī)手動(dòng)劃片機(jī)
CMP后清洗機(jī)-單晶圓/掩膜版兆聲清洗
CMP后清洗機(jī)-單晶圓/掩膜版兆聲清洗：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性,、高均勻性及高潔凈度的兆聲清洗,、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕...

型號(hào)： SWC4000 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/4/28 11:22:27 對(duì)比

兆聲清洗機(jī)晶圓清洗機(jī)晶圓清洗設(shè)備cmp后清洗機(jī)掩膜版清洗機(jī)
單晶圓/硅片/掩膜版清洗機(jī)
單晶圓/硅片/掩膜版清洗機(jī)：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性,、高均勻性及高潔凈度的兆聲清洗,、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻蝕,。它可...

型號(hào)： SWC4000 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/4/28 11:20:03 對(duì)比

兆聲清洗機(jī)晶圓清洗機(jī)晶圓清洗設(shè)備硅片清洗設(shè)備掩膜版清洗機(jī)
LSC4000 半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備
LSC4000 半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備：Nano-Master兆聲大基片濕法刻蝕系統(tǒng)提供高可重復(fù)性,、高均勻性及高潔凈度的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離,。它是集成式的...

型號(hào)：所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/4/28 11:17:41 對(duì)比

晶圓清洗設(shè)備晶圓清洗機(jī)硅片清洗設(shè)備半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備硅片清洗機(jī)
SWC4000 掩模版兆聲清洗機(jī)
SWC4000 掩模版兆聲清洗機(jī)：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性,、高均勻性及高潔凈度的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離,，以及濕法刻蝕...

型號(hào)：所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/4/28 11:15:15 對(duì)比

兆聲清洗機(jī)晶圓清洗機(jī)晶圓清洗設(shè)備硅片清洗設(shè)備半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備
NIE-4000 IBE離子束刻蝕機(jī)
NIE-4000 IBE離子束刻蝕機(jī)：如銅和金等金屬不含揮發(fā)性化合物,，這些金屬的刻蝕無(wú)法在RIE系統(tǒng)中完成。然而通過(guò)加速的Ar離子進(jìn)行物理刻蝕則是可能的,。樣品表...

型號(hào)：所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/4/28 11:12:54 對(duì)比

離子束刻蝕機(jī)ibe刻蝕離子束刻蝕ibe離子束刻蝕ibe離子束刻蝕機(jī)
高分辨二次離子質(zhì)譜儀tof-sims
高分辨二次離子質(zhì)譜儀tof-sims是非常靈敏的表面分析手段,，憑借質(zhì)譜分析、二維成像分析,、深度元素分析等功能,，廣泛應(yīng)用于醫(yī)學(xué)、細(xì)胞學(xué),、地質(zhì)礦物學(xué)、半導(dǎo)體,、微電子...

型號(hào)： SurfaceSe... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/4/28 11:10:37 對(duì)比

飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜儀tof-sims二次離子質(zhì)譜儀飛行時(shí)間質(zhì)譜儀sims
SIMS二次離子質(zhì)譜儀
SurfaceSeer I是一款高靈敏度,、高質(zhì)量范圍、高分辨率的SIMS二次離子質(zhì)譜儀（TOF-SIMS）,，可以用于絕緣,、導(dǎo)電表面的成像分析與化學(xué)成分分析。Su...

型號(hào)： SurfaceSe... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/4/28 11:08:49 對(duì)比

飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜儀tof-sims二次離子質(zhì)譜儀飛行時(shí)間質(zhì)譜儀sims
TOF-SIMS飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜儀
Kore SurfaceSeer I是一款高靈敏度的TOF-SIMS飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜儀,，用于絕緣,、導(dǎo)電表面的成像分析與化學(xué)成分分析。SurfaceSeer ...

型號(hào)： SurfaceSe... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/4/28 10:58:00 對(duì)比

飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜儀TOF-SIMS二次離子質(zhì)譜儀飛行時(shí)間質(zhì)譜儀質(zhì)譜儀
飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜儀（TOF-SIMS）
Kore SurfaceSeer S在飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜儀（TOF-SIMS）系列中,，是一款高性價(jià)比且經(jīng)久耐用的產(chǎn)品,。它是研究樣品表面化學(xué)成分的理想選擇，適用...

型號(hào)： SurfaceSe... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/4/28 10:56:07 對(duì)比

飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜儀TOF-SIMS二次離子質(zhì)譜儀飛行時(shí)間質(zhì)譜儀質(zhì)譜儀
微波等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
微波等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng): NM的微波PECVD能夠沉積高質(zhì)量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可達(dá)12" 的基片.淋浴頭電極或中空陰極射頻等離子源,，...

型號(hào)：所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/4/28 10:54:07 對(duì)比

等離子化學(xué)氣相沉積微波PECVD進(jìn)口微波PECVD
光學(xué)鍍膜設(shè)備
光學(xué)鍍膜設(shè)備：NANO-MASTER NOC-4000光學(xué)涂覆系統(tǒng)提供*進(jìn)的技術(shù),，在一個(gè)腔體中實(shí)現(xiàn)原子級(jí)清洗和光學(xué)樣片拋光，然后把樣片傳送到第二級(jí)腔體中對(duì)同一樣...

型號(hào)：所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/4/28 10:51:38 對(duì)比

光學(xué)鍍膜設(shè)備光學(xué)元件原子級(jí)鍍膜光學(xué)元件鍍膜機(jī)光學(xué)元件清洗鍍膜
光學(xué)鍍膜系統(tǒng)
光學(xué)鍍膜系統(tǒng)：NANO-MASTER NOC-4000光學(xué)涂覆系統(tǒng)提供*進(jìn)的技術(shù),，在一個(gè)腔體中實(shí)現(xiàn)原子級(jí)清洗和光學(xué)樣片拋光,，然后把樣片傳送到第二級(jí)腔體中對(duì)同一樣...

型號(hào)：所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/4/28 10:49:11 對(duì)比

光學(xué)鍍膜系統(tǒng)光學(xué)元件原子級(jí)鍍膜光學(xué)元件鍍膜機(jī)光學(xué)元件清洗鍍膜
進(jìn)口ALD設(shè)備
進(jìn)口ALD設(shè)備：ALD原子層沉積可以滿足膜厚控制以及高深寬比結(jié)構(gòu)的保形沉積,，這方面ALD原子層沉積遠(yuǎn)超過(guò)其它沉積技術(shù)。由于前驅(qū)體流量的隨意性不會(huì)帶來(lái)影響,，所以在...

型號(hào)：所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/4/28 10:45:25 對(duì)比

ALD進(jìn)口ALD全自動(dòng)原子層沉積進(jìn)口全自動(dòng)ALD
等離子去膠機(jī)
等離子去膠機(jī)：NANO-MASTER 等離子去膠和等離子灰化機(jī)是專門設(shè)計(jì)用來(lái)滿足晶圓批處理或單晶片處理,，具有廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到,。該系...

型號(hào)：所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/4/28 10:42:58 對(duì)比

等離子去膠機(jī)等離子去膠系統(tǒng)進(jìn)口等離子去膠機(jī)
兆聲清洗機(jī)
兆聲清洗機(jī)：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性,、高均勻性及的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離,，以及濕法刻蝕,。該系統(tǒng)配套機(jī)械手，也可以升級(jí)...

型號(hào)： SWC系列/LSC... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/4/28 10:40:56 對(duì)比

兆聲清洗機(jī)晶圓清洗機(jī)兆聲無(wú)損清洗設(shè)備兆聲無(wú)損清洗機(jī)
硅片清洗機(jī)
硅片清洗機(jī)：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性,、高均勻性及兆聲清洗,。它可以在一個(gè)工藝步驟中包含了的無(wú)損兆聲清洗、化學(xué)試劑清洗,、刷子清洗...

型號(hào)： SWC系列/LSC... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/4/28 10:38:33 對(duì)比

硅片清洗機(jī)兆聲無(wú)損清洗機(jī)兆聲無(wú)損清洗設(shè)備兆聲無(wú)損硅片清洗單片晶圓清洗機(jī)
進(jìn)口晶圓清洗機(jī)
進(jìn)口晶圓清洗機(jī)：Nano-Master進(jìn)口兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性,、高均勻性及兆聲清洗。它可以在一個(gè)工藝步驟中包含了的無(wú)損兆聲清洗,、化學(xué)試劑清洗,、...

型號(hào)： SWC系列/LSC... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/4/28 10:36:24 對(duì)比

進(jìn)口晶圓清洗機(jī)兆聲無(wú)損清洗機(jī)兆聲無(wú)損清洗設(shè)備進(jìn)口掩模版清洗機(jī)兆聲無(wú)損硅片清洗

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