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NIM-4000（A）全自動離子銑刻蝕：利用離子束轟擊固體表面的濺射作用,，剝離加工各種幾何圖形，通過大面積離子源產(chǎn)生的離子束，可對固體材料濺射刻蝕,，對固體器件進(jìn)...

NIE-4000（A）全自動IBE離子束刻蝕：如銅和金等金屬不含揮發(fā)性化合物,，這些金屬的刻蝕無法在RIE系統(tǒng)中完成。然而通過加速的Ar離子進(jìn)行物理刻蝕則是可能的...

NIE-4000（M）IBE離子束刻蝕：如銅和金等金屬不含揮發(fā)性化合物,，這些金屬的刻蝕無法在RIE系統(tǒng)中完成,。然而通過加速的Ar離子進(jìn)行物理刻蝕則是可能的。通常...

NIE-3000IBE離子束刻蝕：是一款手動放片/取片,，但工藝過程為全自動計(jì)算機(jī)控制的臺式離子束刻蝕系統(tǒng),，可以用于表面清洗、表面處理,、離子銑等,。

NIE-3500（A）全自動IBE離子束刻蝕：是一款自動放片/取片，并且工藝過程為全自動計(jì)算機(jī)控制的緊湊型獨(dú)立的立柜式離子束刻蝕系統(tǒng),，可以用于表面清洗,、表面處理...

NIE-3500（M）IBE離子束刻蝕：是一款手動放片/取片，但工藝過程為全自動計(jì)算機(jī)控制的緊湊型獨(dú)立的立柜式離子束刻蝕系統(tǒng),，可以用于表面清洗,、表面處理、離子銑...

NMC-4000 MOVPE設(shè)備：針對InGaN及AlGaN沉積工藝所研發(fā)的臺式等離子輔助金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)（PA-MOCVD）,該系統(tǒng)具有5個鼓泡裝置（...

NIE-3500（R）RIBE反應(yīng)離子束刻蝕：可以用于光柵刻蝕,，SiO2二氧化硅,、Si 硅以及金屬等的深槽刻蝕。此外,，還可以用于表面清洗,、表面處理、離子銑,。系統(tǒng)...

NIE-4000IBE離子束刻蝕系統(tǒng)：如銅和金等金屬不含揮發(fā)性化合物,，這些金屬的刻蝕無法在RIE系統(tǒng)中完成。然而通過加速的Ar離子進(jìn)行物理刻蝕則是可能的,。通常情...

NSC-4000Sputter磁控濺射鍍膜機(jī)：*進(jìn)的全自動濺射系統(tǒng)帶有水冷或者加熱（可加熱至700度）功能,；8“旋轉(zhuǎn)樣平臺,可支持到3個偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套...