今年7月，北京理工的RIE-PECVD順利安裝驗收,。這套設(shè)備是Nano-Master極富特色的雙系統(tǒng)設(shè)備,，一套設(shè)備中實現(xiàn)反應(yīng)離子刻蝕工藝，同時具備等離子增強化學(xué)氣相沉積的工藝能力,，既避免客戶擔心的交叉污染問題,，又為實驗室節(jié)省了寶貴的空間和預(yù)算，是大學(xué)院校和科研機構(gòu)的熱門選擇,。

NANO-MASTER(那諾-馬斯特) PECVD系統(tǒng)能夠沉積高質(zhì)量的SiO2, Si3N4, 或DLC薄膜到zui大可達12” 直徑的基片上,可以通過不同配置實現(xiàn)高速沉積,，或控制氮化物薄膜應(yīng)力，或支持CNT和石墨烯生長,。主要型號包含NPE-3000,，NPE-3500，和NPE-4000,。同時,，NANO MASTER(那諾-馬斯特)提供的全自動RIE系統(tǒng)主要用于刻蝕氧化物、氮化物和金屬,，可以根據(jù)需要配置ICP實現(xiàn)快速深刻,，DRIE系統(tǒng)可用于深硅刻蝕。主要型號包含NRE-3000,，NRE-3500,，NRE-4000，NDR-4000,。 如果用戶同時有RIE和PECVD的需求,，我們可以提供雙系統(tǒng)方案以節(jié)省空間和預(yù)算。