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ALD系統(tǒng)應用范圍再次升級

時間:2017-10-13閱讀:3456
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隨著NANO-MASTER*技術的ICP源的深入應用,,對于大面積的基片提供均勻高品質的薄膜生長得以實現,。到目前為止,NANO-MASTER的ALD系統(tǒng)可以支持在任意尺寸的襯底上的擴展,,這給顯示和照明等領域帶來好消息,。

此外,NANO-MASTER同時具備粉末處理能力的擴展,。這樣,,NANO-MASTER系統(tǒng)已經可以支持在任意尺寸和任意形狀的固體上進行原子級生長。在應用選擇方面,,我們支持熱ALD和PEALD系統(tǒng)的單獨應用,,同時也支持ALE/ALD雙系統(tǒng)、IBE/ALD雙系統(tǒng),、ALD/PECVD雙系統(tǒng),、ALD/IBAD雙系統(tǒng)等應用,以及ALD跟其它NANO-MASTER任意系統(tǒng)組成的Cluster系統(tǒng),,可以實現多工序工藝在不間斷真空的情況下一步完成工藝,。

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