磁控濺射與蒸發(fā)鍍膜2
具體成交價以合同協(xié)議為準
- 公司名稱 沈陽美濟真空科技有限公司-J
- 品牌
- 型號
- 產地
- 廠商性質 經銷商
- 更新時間 2019/5/25 15:21:26
- 訪問次數(shù) 363
產品標簽
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| 產地類別 | 國產 | 價格區(qū)間 | 面議 |
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磁控濺射是入射粒子和靶的碰撞過程,。入射粒子在靶中經歷復雜的散射過程，和靶原子碰撞,，把部分動量傳給靶原子,，此靶原子又和其他靶原子碰撞,，形成級聯(lián)過程。在這種級聯(lián)過程中某些表面附近的靶原子獲得向外運動的足夠動量,，離開靶被濺射出來,。
磁控濺射設備性能參數(shù)：
1、磁控濺射與蒸發(fā)鍍膜2 極限真空：2×10-6Pa,?？慑兇笾睆?英寸基片一片?；謴驼婵眨簭拇髿獾?×10-4Pa ≦30min（新平臺充干燥氮氣）,。平臺總體漏率：關機12小時真空度≤1Pa。
分子束外延設備性能參數(shù)：
1,、磁控濺射與蒸發(fā)鍍膜2 極限真空：5×10-7Pa,。（配400L/S離子泵及2000L/S升華泵后極限真空可達2×10-8Pa）可鍍大直徑4英寸基片一片?；謴驼婵眨簭拇髿獾?×10-4Pa ≦40min（新設備充干燥氮氣）,，設備總體漏率：關機12小時真空度≤0.2Pa。
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