磁控濺射
具體成交價以合同協(xié)議為準
- 公司名稱 沈陽美濟真空科技有限公司-J
- 品牌
- 型號
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
- 更新時間 2019/5/25 15:11:48
- 訪問次數(shù) 615
產(chǎn)品標簽
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產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 價格區(qū)間 | 面議 |
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1,、基片尺寸:≥110×110mm,基片加擋板,。
2,、基片臺:基片臺旋轉(zhuǎn),轉(zhuǎn)速0-25rpm連續(xù)可調(diào),,光控定位,;
襯底加熱:磁控濺射采用真空加熱器,室溫~1500℃可調(diào)可控,;
反濺清洗,;磁控濺射采用射頻電源對基片表面進行“清洗/活化”;
3,、基片架轉(zhuǎn)速0~25轉(zhuǎn)/分,,可控可調(diào)。
4,、基片架可加熱,、可旋轉(zhuǎn)、可升降,。
5,、靶面到基片距離60~90mm可調(diào)。
6,、Ф3英寸圓形平面磁控濺射永磁靶,;可鍍鐵磁材料的磁控濺射靶1支,可鍍普通靶材的磁控濺射靶1支,;靶材尺寸Ф3英寸,。
7、鍍膜室極限真空:≤5×10-5Pa,,抽至 10-4Pa≤20min,;。
8,、速率和膜厚監(jiān)控:石英晶振膜厚儀,,在線監(jiān)測蒸發(fā)速率,監(jiān)控膜厚,;厚度監(jiān)測范圍:1Å~99999Å,,分辨率1Å;速率監(jiān)測范圍:0.1Å~99.9Å /s,,分辨率0.1Å,;