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深圳市矢量科學儀器有限公司

  • 濕法勻膠工作臺

    Laurell的WS-1000MH系列微型濕法勻膠工作臺適用于更狹小的空間和較小的預算,。這個簡單的工作站被提煉出真正的濕式工作站必須具備的精髓,，以實現(xiàn)最大的經濟...
    型號： WS-1000MH 所在地：美國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 14:45:26 對比

  • 無掩模光刻機

    μMLA無掩模光刻機是優(yōu)良的無模板技術,，建立在著名的 μPG 平臺之上，該平臺是臺式無模板系統(tǒng),。
    型號： μMLA 所在地：德國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 14:34:47 對比

  • 掃描電鏡等離子清洗機

    CIF掃描電鏡等離子清洗機采用遠程等離子清洗源設計,，清洗快速、高效,、低轟擊損傷,，主要用于SEM或FIB等電鏡腔體內碳氫化合物的清洗。
    型號： CIF-SEM 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 14:34:10 對比

  • 勻膠機

    H6-8型勻膠機機結構緊湊,，具有優(yōu)良的功能,，設計為最容易安裝在手套箱中的旋涂機。這款 650 系列 HL 涂布機系統(tǒng) 將 可容納最大 200mm 晶圓和 7 英...
    型號： H6-8 所在地：美國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 14:00:18 對比

  • 晶圓清洗機

    高效的緊湊型清洗裝置,，為您的流程提供支持977晶圓清洗機系統(tǒng)專為切割后工件清洗和干燥而設計，配有旋轉卡盤臺,、旋轉清洗/干燥臂,。臂可配置霧化清潔噴嘴或高壓噴嘴，滿...
    型號： 977 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 13:37:50 對比

  • 等離子清洗和加熱機

    由德國UNITEMP研發(fā)的等離子清洗和加熱機,，最大零件裝載面積：305 mm x 305 mm（最大零件高度為 25 mm）,。
    型號： PTP-300 所在地：德國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 11:33:05 對比

  • 勻膠機

    laurell的H6-15系列勻膠機結構緊湊，具有優(yōu)良的功能,，設計為最容易安裝在手套箱中的旋涂機,。這款650系列HL涂布機系統(tǒng) 將 可容納高達300mm 的晶圓...
    型號： H6-15 所在地：美國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 11:31:33 對比

  • 勻膠機

    laurell的H6-23型的勻膠機結構緊湊，具有優(yōu)良的功能,，設計為最容易安裝在手套箱中的旋涂機,。這款 650 系列 HL 涂布機系統(tǒng) 將 可容納最大 150m...
    型號： H6-23 所在地：美國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 11:30:46 對比

  • 無掩模直接成像儀光刻機

    PG 300 DI 是一款體積圖案發(fā)生器，專為在 i 線光刻膠中直接寫入高分辨率微結構而設計,。它源自掩模制作工具,，具有所有先進的 VPG 系統(tǒng)組件,，能夠以最高的...
    型號： VPG 300 D... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 11:22:38 對比

  • 勻膠機

    laurell的WS-650-23B型勻膠機結構緊湊，具有優(yōu)良的功能,。這款650系列涂布機系統(tǒng) 將 可容納最大150mm晶圓和5英寸×5英寸（127m...
    型號： WS-650-23... 所在地：美國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 11:07:17 對比

  • 勻膠機

    laurell的WS-650-8 B 型勻膠機結構緊湊,，具有優(yōu)良的功能。這款650系列涂布機系統(tǒng) 將 可容納最大200mm晶圓和 7英寸×7英寸 （1...
    型號： WS-650-8B 所在地：美國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 10:27:15 對比

  • 高精密微3D光刻機

    織雀™PL-3D Premium 是托托科技自主研發(fā)的高精密微3D光刻設備,， 最高光學分辨率可達1μm,，支持最大50 mm×50 mm&#...
    型號： 織雀™... 所在地：蘇州市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 10:12:48 對比

  • 掩模對準光刻機

    掩模對準光刻機是用于 300 mm 和 200 mm 晶圓的高度自動化掩模對準平臺。SUSS MicroTec 的 MA300 Gen3 是一款高度自動化的掩模...
    型號： MA300 Gen... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 9:31:21 對比

  • 掩膜自動處理系統(tǒng)

    掩模的完整性對高標準光刻工藝的成功起主要作用,。MaskTrack Pro 掩膜自動處理系統(tǒng)滿足下一代光刻節(jié)點在掩模清洗,、烘烤和顯影工藝方面的所有標準。它是應對 ...
    型號： MaskTrack... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 9:14:28 對比

  • 無掩膜光刻機

    BIO系列是生命科學版的無掩膜紫外光刻機,，無掩膜光刻機具有更高的深寬比,，能滿足生命科學領域的特殊需求。它主要用于制備像微流控芯片之類的具有特定需求的樣品 ,。在微...
    型號： BIO L+ 所在地：蘇州市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 17:49:14 對比

  • 無掩膜光刻機

    Speed系列是高速版的無掩膜版紫外光刻機,，其無掩膜光刻機配備了先進的高速空間光調制器以及高功率紫外激光器。這一系列的光刻機不僅保證了高精度和高靈活性,，更在這一...
    型號： UV Litho-... 所在地：蘇州市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 17:43:34 對比

  • 星型全自動涂膠顯影機

    KS-S150星型全自動涂膠顯影機用于LED-PSS工藝的涂膠顯影制程及化合物半導體的涂膠顯影等制程,。可兼容藍寶石,、砷化鎵和碳化硅等材質的晶圓,，產品涉及多個應用...
    型號： KS-S150 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 17:31:57 對比

  • 激光掩模光刻機

    ULTRA激光掩模光刻機 是專門用于成熟半導體光掩模的合格激光掩模機。半導體光掩模用于制造電子設備,，包括微控制器,、電源管理、LED,、物聯(lián)網 （IoT） 和 ME...
    型號： ULTRA 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 17:11:10 對比

  • 無掩膜光刻機

    ACA系列是科研版的無掩膜版紫外光刻機,，其基于空間光調制技術，實現(xiàn)了數(shù)字掩膜光刻,，靈活性使其成為科學研究,。設備搭載長壽命、高功率的紫外光源,，設備穩(wěn)定,，上手簡單。...
    型號： UV Litho-... 所在地：蘇州市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 17:08:14 對比

  • 雙軸全自動晶圓劃片機

    8230雙軸全自動晶圓劃片機：一款專為半導體制造設計的設備,，集高效,、精準、高性能與低成本于一身，最大支持12英寸晶圓切割,。雙軸對向設計,，提升切割效率，滿足高精度...
    型號： 8230 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 17:04:00 對比
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