1. 產(chǎn)品概述：

臺(tái)式 μMLA 系統(tǒng)是優(yōu)良的無模板技術(shù),，建立在的 μPG 平臺(tái)之上，該平臺(tái)是全球高的臺(tái)式無模板系統(tǒng),。它是一款入門研發(fā)（R&D）工具，幾乎適用于任何需要微結(jié)構(gòu)的應(yīng)用,。典型的例子有微流控（細(xì)胞分選裝置,、芯片實(shí)驗(yàn)室）、小規(guī)模掩模寫入,、微光學(xué)和微透鏡陣列,、傳感器、MEMS,、接觸式二維材料和扇出電等,。

μMLA是一種靈活且可定制的工具，并提供兩種曝光模式,。標(biāo)準(zhǔn)μMLA使用光柵掃描曝光模式進(jìn)行曝光,，該模式速度快，可提供出色的圖像質(zhì)量和保真度,，而寫入時(shí)間與圖案密度的結(jié)構(gòu)大小無關(guān),?？蛇x的矢量掃描模式旨在以更快,、更準(zhǔn)確的方式對(duì)連續(xù)平滑的曲線（如波導(dǎo)）進(jìn)行圖案化。三種光學(xué)設(shè)置提供了可變分辨率和吞吐量的選擇,。每種配置都允許在不同的分辨率和速度配置之間輕松切換,，以優(yōu)化給定應(yīng)用的曝光,。拉伸模式可以對(duì)現(xiàn)有結(jié)構(gòu)進(jìn)行直接的臨時(shí)修改，并可以與納米線或 2D 材料進(jìn)行電接觸,。灰度曝光模式允許創(chuàng)建復(fù)雜的 2.5 結(jié)構(gòu),，例如微光學(xué)設(shè)備。μMLA占地面積小,，可放在普通桌子上。