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深圳市矢量科學儀器有限公司

當前位置:深圳市矢量科學儀器有限公司>>半導體前道工藝設備>>1 光刻設備>> PTP-300等離子清洗和加熱機

等離子清洗和加熱機

參  考  價:面議
具體成交價以合同協(xié)議為準

產(chǎn)品型號PTP-300

品牌UNITEMP/尤尼坦

廠商性質(zhì)經(jīng)銷商

所在地德國

更新時間:2024-09-05 11:33:05瀏覽次數(shù):412次

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由德國UNITEMP研發(fā)的等離子清洗和加熱機,,最大零件裝載面積:305 mm x 305 mm(最大零件高度為 25 mm),。

1 產(chǎn)品概述:

    等離子清洗和加熱機是一種集等離子清洗與加熱功能于一體的先進設備。它利用等離子體技術,通過給氣體施加足夠的能量使其離子化,形成包含離子,、電子、原子,、活性基團等活性組分的等離子體,。這些活性組分在真空或特定環(huán)境下對物體表面進行轟擊,實現(xiàn)清洗,、除油,、活化、改性等多種處理效果,。同時,,通過加熱功能,可以進一步提高清洗效果和速度,,滿足不同工藝需求,。

2 設備用途:

  1. 表面清洗:等離子清洗技術能夠高效去除物體表面的有機污染物、氧化物,、油脂等雜質(zhì),,且不會對材料本身造成損傷,,保證材料表面的完整性和功能性。廣泛應用于電子,、半導體,、航空航天、汽車制造等領域,。

  2. 表面活化:等離子處理可以增加材料表面的粗糙度和活性,提高材料與其他物質(zhì)的粘附性,,改善涂覆,、印刷、粘接等工藝效果,。

  3. 表面改性:通過等離子體的作用,,可以改變材料表面的化學組成和分子結(jié)構,提高材料的生物相容性,、耐腐蝕性,、耐磨性等性能。

  4. 加熱處理:加熱功能可以進一步提高清洗效果和速度,,促進物體表面的干燥,,減少殘留水分,防止水垢和污漬的產(chǎn)生,。同時,,加熱還可以促進化學反應的進行,提高處理效果,。

3. 設備特點

1 高效清洗:等離子清洗技術具有高效,、快速、均勻的特點,,能夠去除物體表面的各種污染物,,保證清洗質(zhì)量。

2 無損處理:等離子清洗過程在真空或特定環(huán)境下進行,,不會對材料表面造成機械損傷或化學腐蝕,,保證材料表面的完整性和功能性。

3 環(huán)保節(jié)能:等離子清洗過程中不產(chǎn)生廢水,、廢氣等污染物,,且能耗較低,符合環(huán)保要求,。

4 多功能性:等離子清洗和加熱機集清洗,、活化、改性,、加熱等多種功能于一體,,能夠滿足不同工藝需求。

5 自動化程度高:設備通常采用數(shù)控技術,實現(xiàn)自動化操作,,減少人為干預,,提高生產(chǎn)效率和穩(wěn)定性。

綜上所述,,等離子清洗和加熱機是一種高效,、環(huán)保、多功能的表面處理設備,,在多個行業(yè)中具有廣泛的應用前景,。

4  設備參數(shù):

技術數(shù)據(jù) PTP-300

裝貨區(qū)域:

305 mm x 305 mm x 25 mm (過程區(qū)域)

腔室高度:

35 毫米

腔體材料:

/石英玻璃

腔體材料(可選):

鋁或石英玻璃工藝室(尺寸:305 x 305 x 26 mm

外尺寸:

600 mm x 1850 x 880 mm(寬 x x 高)

室:

集成進氣口/默認有 2 條氣體管路

燃氣管線:

2 質(zhì)量流量控制器

真空:

DN25 KF真空法蘭

加熱:

24 個紅外燈(總計 18 kW

過程控制方式:

SPS控制器PP420(貝加萊),帶LCD顯示屏

保養(yǎng):

以太網(wǎng)

微波發(fā)生器:

用于等離子清洗或去除氧化物抗蝕劑 2.45 GHz,,大 600 W,,100   W 600 W

冷卻:

需要水冷(水冷卻器可選)

權力:

3/N/PE;交流;50/60赫茲;230/400


有掩膜光刻機

1.手動、半自動,、全自動有掩膜光刻機$r$n2.高分辨率掩模對準光刻,,

無掩膜/激光直寫光刻機

無掩膜/激光直寫光刻機 參數(shù):1. 光源:375 nm、385 nm,、

電子束光刻系統(tǒng)

電子束光刻系統(tǒng) 技術參數(shù):$r$n1.最小線寬≤8nm 光柵周期

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