監(jiān)控薄膜沉積,，有力的工具

KLA Filmetrics F30薄膜厚度測量儀光譜反射率系統(tǒng)能實時測量沉積率,、沉積層厚度,、光學常數(shù) (n 和 k 值) 和半導體以及電介質(zhì)層的均勻性。

樣品層

KLA Filmetrics F30薄膜厚度測量儀分子束外延和金屬有機化學氣相沉積: 可以測量平滑和半透明的,，或輕度吸收的薄膜,。 這實際上包括從氮化鎵鋁到鎵銦磷砷的任何半導體材料。

各項優(yōu)點:

• 極大地提高生產(chǎn)力

• 低成本 —幾個月就能收回成本

• A精確 — 測量精度高于 ±1%

• 快速 — 幾秒鐘完成測量

• 非侵入式 — 在沉積室以外進行測試

• 易于使用 — 直觀的 Windows™ 軟件

• 幾分鐘就能準備好的系統(tǒng)

型號規(guī)格