KLA Filmetrics F3-sX薄膜厚度測量儀能測量半導(dǎo)體與介電層薄膜厚度到3毫米,而這種較厚的薄膜與較薄的薄膜相比往往粗糙且均勻度較為不佳

波長選配

KLA Filmetrics F3-sX薄膜厚度測量儀系列使用近紅外光來測量薄膜厚度,，即使有許多肉眼看來不透光(例如半導(dǎo)體),。 F3-s980 是波長為980奈米的版本，是為了針對成本敏銳的應(yīng)用而設(shè)計,F3-s1310是針對重?fù)诫s硅片的最佳化設(shè)計,F3-s1550則是為了最厚的薄膜設(shè)計,。

附件

附件包含自動化測繪平臺，一個影像鏡頭可看到量測點(diǎn)的位置以及可選配可見光波長的功能使厚度測量能力最薄至15奈米,。

包含的內(nèi)容：

• 集成光譜儀/光源裝置

• 光斑尺寸10微米的單點(diǎn)測量平臺

• FILMeasure 8反射率測量軟件

• Si 參考材料

• FILMeasure 獨(dú)立軟件 (用于遠(yuǎn)程數(shù)據(jù)分析)

• 型號規(guī)格

• 型號	厚度范圍	波長范圍
  F3-s980	1μm-1mm	960-1000nm
  F3-s1310	15μm-2mm	1280-1340nm
  F3-s1550	25μm-3mm	1520-1580nm

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