您好, 歡迎來到化工儀器網(wǎng)
產(chǎn)品簡介
詳細(xì)介紹
NMC-4000PAMOCVD等離子輔助MOCVD
NMC-4000PAMOCVD等離子輔助MOCVD概述：
針對InGaN及AlGaN沉積工藝所研發(fā)的臺式等離子輔助金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(PA-MOCVD),該系統(tǒng)具有加熱的氣體管路,、5個鼓泡裝置(各帶獨立的冷卻槽)、950度樣品臺三個氣體環(huán),、PC全自動控制,、淋浴式氣體分布的RF射頻等離子源以及工藝終端的N2沖洗、 250l/sec渦輪分子泵及無油真空泵(5 x 10-7Torr極限真空),，*的安全互鎖,。
目前，NANO-MASTER(那諾-馬斯特)的這項技術(shù)延伸到5個4"晶圓的立柜式獨立批處理系統(tǒng),，該系統(tǒng)可以集成到集群配置中以滿足高產(chǎn)量的要求,。
NMC-4000PAMOCVD等離子輔助MOCVD型號：
- 應(yīng)用：綠光LED(GaN, InGaN, AlGaN, ...)
- 臺式系統(tǒng)
- 5個帶獨立冷卻槽的起泡器
- 加熱的氣體管路
- 950 °C樣品臺,，2"晶圓片
- 3個氣體環(huán)
- RF等離子源，帶淋浴頭氣體分布
- 工藝完成后N2自動沖洗
- 極限真空5x10-7Torr
- 250 l/s的渦輪分子泵串接無油干泵
- 通過LabView軟件實現(xiàn)PC計算機(jī)全自動控制
- 菜單驅(qū)動,，4級密碼訪問控制
- 完整的安全聯(lián)鎖
NMC-4000PAMOCVD等離子輔助MOCVD
- 獨立系統(tǒng)
- 14"不銹鋼立方體腔體
- 1次在8"樣品臺上處理1個6"晶圓片或在12"樣品臺上處理5片4"片子
- 加熱的氣體管路
- RF等離子源,，自動調(diào)諧
- 淋浴頭氣體分布
- 1100°C的旋轉(zhuǎn)樣品臺
- N2沖洗
- 手動或自動的晶圓片上下載
- 可以兼容到集群配置中