等離子輔助MOCVD技術

NMC-3000 PAMOCVD系統(tǒng)概述：NANO-MASTER針對InGaN及AlGaN沉積工藝所研發(fā)的臺式等離子輔助金屬有機化學氣相沉積系統(tǒng)(PA-MOCVD),該系統(tǒng)具有5個鼓泡裝置(各帶獨立的冷卻槽)、加熱的氣體管路,、950度樣品臺三個氣體環(huán),、淋浴式氣體分布的RF射頻等離子源以及工藝終端的N2沖洗、250l/sec渦輪分子泵及無油真空泵(5 x 10^-7Torr極限真空),、PC全自動控制,，*的安全互鎖。

目前,，這項技術延伸到5個4"晶圓的立柜式獨立批處理系統(tǒng),，該系統(tǒng)可以集成到集群配置中以滿足高產量的要求。

NMC-3000 PAMOCVD系統(tǒng)應用：Green LED’s (GaN, InGaN, AlGaN, ...)

特點：

• 臺式系統(tǒng)
• 5個帶獨立冷卻槽的起泡器
• 加熱的氣體管路
• 950 °C樣品臺,，2"晶圓片
• 3個氣體環(huán)
• RF等離子源,，帶淋浴頭氣體分布
• 工藝完成后N2自動沖洗
• 極限真空5x10-7Torr
• 260 l/s的渦輪分子泵串接無油干泵
• 通過LabView軟件實現(xiàn)PC計算機全自動控制
• 菜單驅動，4級密碼訪問控制
• 完整的安全聯(lián)鎖

 Features：

• Table Top System 
• ive Bubblers with Individual Cooling Baths
• Heated Gas Lines
• 950 °C Platen, 2" Wafer
• Three Gas Rings
• RF Plasma Source with Shower Head Gas Distribution
• N₂ Flush after Process
• 5x 10^-7 Torr Base Pressure
• 250 l/sec Turbomolecular Pump with Oil Free Scroll Pump
• PC Controlled with LabVIEW
• Recipe Driven, Password Protected
• Fully Safety Interlocked