您好, 歡迎來到化工儀器網
產品簡介
詳細介紹
等離子輔助MOCVD技術
NMC-4000（M）PAMOCVD系統(tǒng)概述：NANO-MASTER針對InGaN及AlGaN沉積工藝所研發(fā)的臺式等離子輔助金屬有機化學氣相沉積系統(tǒng)(PA-MOCVD),該系統(tǒng)具有5個鼓泡裝置(各帶獨立的冷卻槽),、加熱的氣體管路、950度樣品臺三個氣體環(huán),、淋浴式氣體分布的RF射頻等離子源以及工藝終端的N2沖洗,、250l/sec渦輪分子泵及無油真空泵(5 x 10-7Torr極限真空)、PC全自動控制,，*的安全互鎖,。
目前，這項技術延伸到5個4"晶圓的立柜式獨立批處理系統(tǒng),，該系統(tǒng)可以集成到集群配置中以滿足高產量的要求,。
NMC-4000（M）PAMOCVD系統(tǒng)應用：Green LED’s (GaN, InGaN, AlGaN, ...)
特點：
- 獨立系統(tǒng)
- 14"不銹鋼立方體腔體
- 1次在8"樣品臺上處理1個6"晶圓片或在12"樣品臺上處理5片4"片子
- 加熱的氣體管路
- RF等離子源，自動調諧
- 淋浴頭氣體分布
- 1100°C的旋轉樣品臺
- N2沖洗
- 手動放置晶圓片
Features：
- Stand Alone System
- 14" Stainless Steel Cube Chamber
- One 6" Wafer with 8" Platen or five 4" Wafers on 12" platen
- Heated Gas Lines
- RF Plasma Source with Auto Tuner
- Shower Head Gas Distribution
- 1100 °C Platen, Rotating
- N2 Flush
- Manual wafer Loading and Unloading