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化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器>濕法工藝設(shè)備>濕法清洗設(shè)備> 槽式硅片清洗機(jī) 芯矽科技

槽式硅片清洗機(jī) 芯矽科技

參考價(jià) 10000
訂貨量 ≥1臺(tái)
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 蘇州芯矽電子科技有限公司
  • 品牌 芯矽科技
  • 型號(hào)
  • 產(chǎn)地 蘇州市工業(yè)園區(qū)江浦路41號(hào)
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間 2025/7/8 15:24:40
  • 訪問(wèn)次數(shù) 5

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芯矽科技是一家專注半導(dǎo)體濕法設(shè)備制造公司,主要提供實(shí)驗(yàn)室研發(fā)級(jí)到全自動(dòng)量產(chǎn)級(jí)槽式清洗機(jī),,單片清洗機(jī),,高純化學(xué)品/研磨液供應(yīng)回收系統(tǒng)及工程,公司核心產(chǎn)品12寸全自動(dòng)晶圓化學(xué)鍍?cè)O(shè)備,,12寸全自動(dòng)爐管/ Boat /石英清洗機(jī)已占據(jù)行業(yè)主導(dǎo)地位,已經(jīng)成功取得長(zhǎng)江存儲(chǔ),,中芯國(guó)際,,重慶華潤(rùn),上海華虹,,上海積塔,,上海格科,,廣東粵芯,青島芯恩,,廈門士蘭,,南通捷捷,湖南楚微等主流8寸12寸Fab產(chǎn)線訂單,,我們致力于為合作伙伴提供適合你的解決方案。


導(dǎo)體濕法設(shè)備

非標(biāo)定制 根據(jù)客戶需求定制

槽式硅片清洗機(jī)是專為半導(dǎo)體硅片制造設(shè)計(jì)的高效清洗設(shè)備,,采用多槽分段式結(jié)構(gòu),集成酸堿清洗,、漂洗、干燥等全流程工藝,,適用于去除硅片表面的顆粒,、金屬污染及有機(jī)物殘留。設(shè)備支持12英寸及以下硅片,,廣泛應(yīng)用于硅片制造、封裝,、科研實(shí)驗(yàn)等領(lǐng)域,,兼具高產(chǎn)能、高精度與低污染特點(diǎn),,是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈中的核心設(shè)備。

核心優(yōu)勢(shì)與特點(diǎn)

多槽分段式清洗結(jié)構(gòu)

設(shè)備采用多槽設(shè)計(jì),,每個(gè)槽體獨(dú)立控制,,可實(shí)現(xiàn)酸堿清洗、有機(jī)溶劑清洗,、漂洗,、干燥等多道工藝步驟,,確保硅片表面污染物清除,。

槽體材質(zhì)選用耐腐蝕性強(qiáng)的特種材料(如PFA、PTFE),,避免清洗液腐蝕設(shè)備,,延長(zhǎng)使用壽命,。

高效自動(dòng)化與智能化控制

集成PLC與觸摸屏操作系統(tǒng),,支持全自動(dòng)清洗流程,減少人工干預(yù),,提升生產(chǎn)效率和工藝穩(wěn)定性,。

實(shí)時(shí)監(jiān)控清洗液狀態(tài)(如濃度,、溫度、pH值),,智能調(diào)整參數(shù),,確保清洗效果一致性。

高精度清洗能力

可選配超聲波輔助清洗功能,,通過(guò)高頻振動(dòng)產(chǎn)生空化效應(yīng),,深入硅片微小縫隙,清除頑固污垢,,滿足納米級(jí)潔凈度要求,。

高純度清洗液循環(huán)系統(tǒng),,避免二次污染,確保硅片表面顆粒去除率≥99.9%,,金屬污染≤0.1nm,。

廣泛兼容性與靈活性

支持12英寸及以下硅片清洗,兼容多尺寸硅片(如8寸,、6寸),適應(yīng)不同產(chǎn)線需求,。

無(wú)卡匣(Cassette-less)設(shè)計(jì),,直接處理硅片,提升裝載效率與空間利用率,,適合大批量生產(chǎn),。

節(jié)能環(huán)保與低成本運(yùn)營(yíng)

清洗液循環(huán)利用系統(tǒng),,減少化學(xué)試劑消耗,,降低廢液處理成本。

高效加熱與冷卻模塊,,優(yōu)化能源使用,,符合綠色制造標(biāo)準(zhǔn)。

安全可靠與易維護(hù)

配備緊急停機(jī),、漏電保護(hù),、氣體報(bào)警等安全功能,確保操作安全性,。

關(guān)鍵部件模塊化設(shè)計(jì),維護(hù)便捷,,減少設(shè)備停機(jī)時(shí)間,。

技術(shù)參數(shù)

適用硅片尺寸:12英寸(300mm)及以下(兼容多尺寸)

清洗方式:槽式清洗(多槽可選),支持超聲波輔助清洗

清洗液:酸堿溶液,、有機(jī)溶劑等,,支持循環(huán)利用與自動(dòng)補(bǔ)充

清洗精度:表面顆粒去除率≥99.9%,金屬污染≤0.1nm

產(chǎn)能:每小時(shí)可處理12英寸硅片XX片(視工藝復(fù)雜度而定)

控制系統(tǒng):PLC自動(dòng)化控制,,支持遠(yuǎn)程監(jiān)控與數(shù)據(jù)采集

應(yīng)用場(chǎng)景

硅片制造:清洗擴(kuò)散、蝕刻,、光刻等工藝后的硅片表面,,確保后續(xù)制程良率。

封裝:清洗芯片,、基板等精密部件,提升鍵合與封裝質(zhì)量,。

科研與實(shí)驗(yàn):適用于高校,、研究所的高精度清洗需求,支持特殊工藝開(kāi)發(fā),。

槽式硅片清洗機(jī)以其高效,、精密,、環(huán)保的特點(diǎn),成為半導(dǎo)體制造中硅片清洗的理想選擇,。多槽分段式結(jié)構(gòu)確保清洗效果,,智能化控制與自動(dòng)化操作提升生產(chǎn)效率,廣泛兼容性與模塊化設(shè)計(jì)適應(yīng)不同工藝需求。無(wú)論是大規(guī)模生產(chǎn)還是制程,,該設(shè)備都能提供穩(wěn)定可靠的清洗解決方案,助力客戶提升產(chǎn)品質(zhì)量與市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)力,。



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