VTC-600G高真空磁控濺射儀
- 公司名稱 沈陽科晶自動化設(shè)備有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2025/1/22 16:39:51
- 訪問次數(shù) 875
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切割機(jī),，金剛石線切割機(jī)，研磨拋光機(jī),，提拉涂膜機(jī),，旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)，真空鍍膜機(jī),，管式爐,，箱式爐，電池實(shí)驗(yàn)研究設(shè)備,，清洗機(jī)
| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 綜合 |
VTC-600G高真空磁控濺射儀是新自主研制開發(fā)的鍍膜設(shè)備,，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜,、合金薄膜,、半導(dǎo)體薄膜,、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜,、光學(xué)薄膜,、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜,、聚四氟乙烯薄膜等,。VTC-600G高真空磁控濺射儀可選配多個(gè)靶槍,，配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜,，配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜。與同類設(shè)備相比,，其不僅應(yīng)用廣泛,，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn)，是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備,，特別適用于實(shí)驗(yàn)室研究固態(tài)電解質(zhì)及OLED等,。
可選配多個(gè)靶槍，配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜,，配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜（靶槍可以根據(jù)客戶需要任意調(diào)換）,。
可制備多種薄膜，應(yīng)用廣泛,。
體積小,，操作簡便。
整機(jī)模塊化設(shè)計(jì),，真空腔室、真空泵組,、控制電源分體式設(shè)計(jì)，可根據(jù)用戶實(shí)際需要調(diào)整,。
可根據(jù)用戶實(shí)際需要選擇電源,，可以一個(gè)電源控制多個(gè)靶槍,，也可多個(gè)電源單一控制靶槍,。
| 產(chǎn)品名稱 | VTC-600G高真空磁控濺射儀 | |
| 產(chǎn)品型號 | VTC-600G | |
| 主要參數(shù) | 1,、結(jié)構(gòu)：臺式前開門結(jié)構(gòu)，后置抽氣系統(tǒng),。 2,、極限真空：6.0X10-5Pa。 3,、漏率：1h≤0.5Pa。 4,、抽氣時(shí)間大氣至5.0X10-3約20分鐘,。 5、真空泵組：機(jī)械泵+分子泵,。 6,、樣品臺:φ140、室溫-500℃,、精度±1℃ （可根據(jù)實(shí)際需要提升溫度） 自轉(zhuǎn)5rpm-20rpm內(nèi)可調(diào),。 可根據(jù)客戶需求選配加裝偏壓功能， 以實(shí)現(xiàn)更高質(zhì)量的鍍膜,。 7,、加氣系統(tǒng)：質(zhì)量流量計(jì)2路。 （氬氣/氮?dú)飧饕宦罚?nbsp; 8,、靶頭與樣品臺中軸線夾角為34° 9,、靶頭數(shù)量：3個(gè)（互成120°）。 10,、 靶槍冷卻方式：水冷 11,、靶材尺寸：φ2″，厚度0.1-5mm （因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同） | |
| 產(chǎn)品規(guī)格 | 12,、產(chǎn)品規(guī)格：
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| 序號 | 名稱 | 功能類別 | 圖片鏈接 |
| 1 | 樣品臺擋板 | （可選） |  |
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