VTC-600-2HD-1000雙靶磁控濺射儀
- 公司名稱 沈陽科晶自動化設(shè)備有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時間 2024/3/30 20:13:08
- 訪問次數(shù) 660
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| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 價格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 綜合 |
VTC-600-2HD-1000雙靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發(fā)的一款高真空鍍膜設(shè)備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜,、導(dǎo)電薄膜,、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜,、陶瓷薄膜,、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜,、氧化物薄膜,、硬質(zhì)薄膜,、聚四氟乙烯薄膜等。雙靶磁控濺射儀配備有兩個靶槍和兩個電源,，一個射頻電源用于非導(dǎo)電材料的濺射鍍膜,，一個直流電源用于導(dǎo)電材料的濺射鍍膜，可選配強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜,。與同類設(shè)備相比,，且具有體積小便于操作的優(yōu)點，且可使用的材料范圍廣,，是一款實驗室制備各類材料薄膜的理想設(shè)備,。
1、配置兩個靶槍,，一個配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜,，一個配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜。
2,、可制備多種薄膜,，應(yīng)用廣泛。
3,、體積小,，操作簡便。
產(chǎn)品名稱 | VTC-600-2HD-1000雙靶磁控濺射儀 |
產(chǎn)品型號 | VTC-600-2HD-1000 |
安裝條件 | 本設(shè)備要求在海拔1000m以下,，溫度25℃±15℃,，濕度55%Rh±10%Rh下使用。 |
主要參數(shù) | 1,、輸入電源：220V/50Hz |
產(chǎn)品規(guī)格 | 主機尺寸：寬900mm×深650mm×高1100mm |
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