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VTC-600-3HD-1000三靶磁控濺射儀

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  沈陽科晶立足國內市場實際情況,,以提供Z為實用的產品為己任,。產品的質量、精度在向國外企業(yè)看齊的基礎上,,產品的價格定位卻僅僅是其幾分之一,。性價比不僅吸引了眾多國內客戶,而且令挑剔的外國客商也稱贊不已,,產品遠銷于印度,、馬來西亞、土耳其,、波蘭,、突尼斯、澳大利亞等國家,,并大量出口于美國,。

  沈陽科晶為了更好地服務客戶,專門設立了開放式專業(yè)實驗室,,配備了優(yōu)秀的專業(yè)技術人員,。在這里,不僅可以提供親身的產品體驗環(huán)境,,而且還可得到專業(yè)人員的操作指導,。開設以來,制作的樣品達上千件,,接待來訪客參觀戶百余次,,其中包括多次外國友人的來訪。在此,,沈陽科晶全體員工誠摯地歡迎您的到來,并希望您能提出寶貴的意見與建議,。

  沈陽科晶一路走過的歷程,,是為我國材料研究事業(yè)全力貢獻的歷程,是以實際行動將自己打造成國內材料分析設備品牌的歷程,,是與國外同行不斷縮小差距的歷程,,是與廣大客戶相扶相持的成長歷程。雖一路充滿坎坷與荊棘,,但堅持不懈的沈陽科晶人仍全力以赴的前行,。秉承這份堅持,相信在不久的將來,,沈陽科晶也將會成為市場上專業(yè)的,、杰出的材料分析設備品牌,沈陽科晶的明天會更加燦爛輝煌,。

 

我們擁有同類型中優(yōu)質性價比的產品,!                 

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歡迎來到沈陽科晶,我們是國內實驗室樣品制備設備領域的專家,!

 

 

 

 

 

 

 

 

切割機,,金剛石線切割機,研磨拋光機,,提拉涂膜機,,旋轉涂膜機,真空鍍膜機,,管式爐,,箱式爐,電池實驗研究設備,,清洗機

產地類別 國產 價格區(qū)間 面議
應用領域 冶金,綜合

VTC-600-3HD-1000三靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發(fā)的一款高真空鍍膜設備,,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜,、合金薄膜,、半導體薄膜、陶瓷薄膜,、介質薄膜,、光學薄膜、氧化物薄膜,、硬質薄膜,、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-3HD-1000三靶磁控濺射儀配備有三個靶槍和三個電源,,一個射頻電源用于非導電材料的濺射鍍膜,,一個直流電源用于導電材料的濺射鍍膜,可選配強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜,。與同類設備相比,,且具有體積小便于操作的優(yōu)點,且可使用的材料范圍廣,,是一款實驗室制備各類材料薄膜的理想設備,。
1、配置三個靶槍,,兩個配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜,,一個配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜。
2,、可制備多種薄膜,,應用廣泛。
3,、體積小,,操作簡便,。

產品名稱

VTC-600-3HD-1000雙靶磁控濺射儀

產品型號
VTC-600-3HD-1000
主要參數

1、輸入電源:220V/50Hz 
2,、濺射靶數量:3
3,、腔體內徑:?300mm
4、靶槍冷卻方式:水冷 
5,、極限真空度:7.4E-5pa 
6,、真空室規(guī)格:Φ300×330 mm 
7、真空系統(tǒng):VRD-16機械泵 FF-100/150渦輪分子泵 
8,、恢復真空:系統(tǒng)從大氣抽至5.0E-3pa≤30 min(系統(tǒng)短時間暴露大氣) 
9,、充氣系統(tǒng):2路質量流量計(1路氬氣100scc、1路氬氣200scc)特殊氣體可定制 
10,、濺射靶規(guī)格:Φ2",,厚度0.1-5mm(因靶材材質不同厚度有所不同) 
11、樣品臺:Φ70mm//可加熱(室溫~1000℃) 

產品規(guī)格


主機尺寸:寬900mm×深650mm×高1100mm




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