產地類別 | 國產 | 價格區(qū)間 | 面議 |
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應用領域 | 冶金,綜合 |
VTC-600-3HD-1000三靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發(fā)的一款高真空鍍膜設備,,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜,、合金薄膜,、半導體薄膜、陶瓷薄膜,、介質薄膜,、光學薄膜、氧化物薄膜,、硬質薄膜,、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-3HD-1000三靶磁控濺射儀配備有三個靶槍和三個電源,,一個射頻電源用于非導電材料的濺射鍍膜,,一個直流電源用于導電材料的濺射鍍膜,可選配強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜,。與同類設備相比,,且具有體積小便于操作的優(yōu)點,且可使用的材料范圍廣,,是一款實驗室制備各類材料薄膜的理想設備,。
1、配置三個靶槍,,兩個配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜,,一個配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜。
2,、可制備多種薄膜,,應用廣泛。
3,、體積小,,操作簡便,。
產品名稱 | VTC-600-3HD-1000雙靶磁控濺射儀 | |
產品型號 | VTC-600-3HD-1000 | |
主要參數 | 1、輸入電源:220V/50Hz | |
產品規(guī)格 | 主機尺寸:寬900mm×深650mm×高1100mm |