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旋轉涂膜成套設備簡介

來源：沈陽科晶自動化設備有限公司 2022年01月25日 15:18

1. 基片清洗設備：

① 前期簡單清洗：VGT-1620QTD超聲波清洗機（用于去除基片表面污漬）


VGT-1620QTD超聲波清洗機	VGT-1620TD超聲波清洗機

② 深層清洗：

PCE-6等離子清洗機（達分子級的深層清洗，用于改善基片表面的親水性和濕潤性）,、PCE-6V小型等離子清洗機（不僅可用于基片表面性質的改善還可通氧氣進行光刻膠清洗）,、紫外線臭氧清洗：不需要任何溶劑的干式清洗技術，對基片沒有損傷（該法不適用于高分子基片）


PCE-6等離子清洗機	PCE-6V等離子清洗機	PCE-22-LD紫外線臭氧清洗機

2. 基片清洗效果檢測：

DSA-X光學接觸角測量儀,、DSA-X Roll 全自動整體傾斜接觸角分析儀（通過對清洗前后基片表面對同一種液體的接觸角的數(shù)值的檢測,，來判斷清洗效果是否達到要求）


DSA-X光學接觸角測量儀	DSA-X Roll 全自動整體傾斜接觸角分析儀

3. 涂膜：VTC-100PA真空旋轉涂膜機（適用于4英寸及以下的晶圓表面的涂膜）、VTC-200P真空旋轉涂膜機（適用于6英寸及以下的晶圓表面的涂膜）


VTC-100PA真空旋轉涂膜機	VTC-200PV真空旋轉涂膜機

4. 膠體薄膜固化：烤膠機：HT-150型精密烤膠機,、VTC-100PA-Ⅰ或VTC-100PA-Ⅱ上蓋加熱型真空旋轉涂膜機,，無需移動樣片直接進行烤膠。VTC-100PA-UV紫外加熱型旋轉涂膜機用于光敏型膠體薄膜的固化,。

烤膠機

勻膠機

HT-150型精密烤膠機

VTC-100PA-Ⅱ上蓋加熱型

真空旋轉涂膜機

VTC-100PA-UV紫外加熱型旋轉涂膜機

5. 薄膜厚度測定：SE-VE光普橢偏儀膜厚測量范圍：0.5nm-20μmSR-C 反射膜厚儀膜厚測量范圍：100nm-40μm


SR-C 反射膜厚儀	SE-VE光普橢偏儀

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