Plasmionique 支持電子束蒸發(fā)和熱蒸發(fā) 鍍膜 具有以下顯著特點：

1.多功能材料處理

支持金屬、介電材料和有機材料的蒸發(fā),，采用蒸發(fā)舟,、坩堝籃及低溫擴散池（專為有機材料設計），滿足多樣化實驗需求,。

2.緊湊結構與高真空性能

尺寸緊湊（約32英寸寬×22英寸深×24英寸高）,，沉積腔體直徑8英寸、高14英寸,。

配備渦輪泵（80-90 L/s）,，基礎壓力低至10??~10?? Torr，確保潔凈的沉積環(huán)境,。

3.自動化與智能控制

計算機控制的可編程電源（0-6 VDC,，110A），集成PLASMICON控制軟件,，支持工藝配方自動化,。

10英寸觸摸屏實時監(jiān)控，實現(xiàn)全自動沉積流程與數(shù)據(jù)采集,。

4.多樣化加熱源配置

可選金屬舟,、籃式加熱器、氧化鋁涂層加熱器及低溫擴散源,，適應不同溫度需求,。

低溫擴散池配備獨立電源和快門，提升操作靈活性,。

5.精密沉積控制

至少一個石英晶體微量天平,，精準測量薄膜厚度并控制沉積速率。

6.兼容性與擴展性

支持最大4英寸直徑的基板,，滿足常見實驗尺寸需求,。

自動化排氣系統(tǒng)，提升操作便捷性,。

7.定制化服務

可根據(jù)用戶需求提供個性化解決方案,，搭配專業(yè)團隊的技術支持。

Plasmionique 支持電子束蒸發(fā)和熱蒸發(fā) 鍍膜 以緊湊設計、高真空性能,、智能控制及多材料兼容性為核心優(yōu)勢,，適用于科研與工業(yè)領域的精密表面處理與薄膜沉積應用。